小型蒸发镀膜仪

本仪器是一款小型蒸发镀膜仪，蒸发温度从200℃到1700℃，采用钨丝篮作为蒸发源，蒸发源外套高纯氧化铝坩埚。样品台距离蒸发源距离可调。仪器拥有高精度的温度控制系统，采用循环加热方式，能够稳定蒸发金属及部分有机物。采用高纯石英腔体作真空腔体，镀膜过程*可见。仪器标配双极旋片真空泵，能够快速达到1.0E-1Pa的真空度，可满足大多数蒸发镀膜实验所需的真空环境。本仪器适用于蒸发涂覆大多数金属和部分有机材料薄膜，结构紧凑体积小巧，是一款性价比较高的实验室镀膜设备。

小型蒸发镀膜仪适用范围：

小型蒸发镀膜仪主要用于蒸发涂覆大多数金属和部分有机材料薄膜。

小型蒸发镀膜仪技术参数:

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