桌面型双源蒸发镀膜仪

桌面型双源蒸发镀膜仪

本小型蒸发镀膜仪可进行真空蒸镀，在对样品进行蒸发镀膜的过程中，样品台可进行旋转，以获得更均匀的薄膜。镀膜电流*大可达60A，本型号的小型蒸发镀膜仪应用范围广，可制备各种金属薄膜和部分非金属薄膜，因此被广泛用于电极的制备和有机物发光LED的制备。设备配有两套蒸发源，可以通过挡板切换，实现对样品的多层镀膜。仪器体积小巧，可有效节约实验室空间；操作简单，对不同材料的适应性强，十分适合实验室选购。

产品特点

1. 样品台可以旋转，镀膜效果能够更加均匀；

2. 采用钨丝篮为发热源，*高温度可达到1700℃；

3. 可向真空腔体中通入惰性气体，对腔体进行清洗，也可通入反应气体，进行反应蒸发镀膜。

4. 进气口配有针阀，用于调节进气流量。

5. 双蒸法源，可以实现多层镀膜。

技术参数