详细介绍
○ 产品介绍
TN-PEC250G-HV碳钨蒸发等离子溅射复合镀膜仪可进行真空蒸碳、真空热蒸发和等离子溅射,它也可以在高纯氩气的保护之下进行多种离子处理。通过更换功能套件,设备可以在多种功能间快速切换,非常适合实验室制作SEM样品使用。本仪器装有机械泵和分子泵,能够满足多种真空度要求,尤其能够实现高真空,能够有效提高镀膜质量。
○ 适用范围
实验室镀膜使用。
○ 技术参数
真空腔体 | 高纯石英,钟罩状,φ250x340mm |
蒸发腔体 | 高纯石英,镀罩状,带侧面开孔,尺寸φ88x150mm |
等离子溅射腔体 | 高纯石英,镀罩状,带侧面开孔,尺寸φ88x150mm |
| 等离子溅射套件 溅射电压1600V *大电流50mA 靶面尺寸2英寸 工作真空10Pa~20Pa 工作气氛需通入高纯氩气 |
热蒸发镀膜套件 蒸发源数量2个 *大电流100A 工作真空10^-3Pa 工作气氛不通入任何气体 样品台直径φ60mm,可旋转 |
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| 碳蒸发套件 蒸发方式碳棒蒸发 *大电流160A 工作真空10^-3Pa 工作气氛不通入任何气体 |
真空系统 | 产品型号TN-GZK103-A 分子泵涡轮分子泵 前极泵双极旋片泵 抽气速率分子泵:600L/S综合抽气性能:30分钟真空度可达:5×10E-3Pa 旋片泵:1.1L/S 极限真空5×10E-4Pa 抽气接口KF40 排气接口KF16 真空测量复合真空计 |
进气系统 | 配有手动微调阀,接口为1/4英寸卡套接头 |
供电要求 | AC 220V 50Hz |
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