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R-200高级型 原子层沉积机 详细摘要: 芬兰PICOSUN R-200高级型 原子层沉积机
产品型号: 所在地: 更新时间:2021-07-14 参考价: 面议 在线留言 -
MEB550SL3法国Plassys超高真空多腔体电子束镀膜机 详细摘要: MEB550SL3法国Plassys超高真空多腔体电子束镀膜机,电子束蒸镀仪是纳米器件制备中的仪器,用于蒸镀各种高纯金属薄膜,如Ti, Au, Ni, Cr, ...
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德 Iplas 微波等离子化学气相沉积 详细摘要: 德 Iplas 微波等离子化学气相沉积技术,通过等离子增加前驱体的反应速率,降低反应温度。适合制备面积大、均匀性好、纯度高、结晶形态好的高质量硬质薄膜和晶体。
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DV-502B 高真空蒸发器平台,Denton 热蒸发溅射仪 详细摘要: DV-502B 高真空蒸发器平台,Denton 热蒸发溅射仪,在大气和高真空之间快速循环。
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DENTON 磁控溅射及电子束蒸发薄膜沉积平台 详细摘要: DENTON 磁控溅射及电子束蒸发薄膜沉积平台,电子束蒸发、电阻蒸发、溅射、离子镀和离子辅助沉积。
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Plasmalab System100 英国Oxford 等离子增强化学气相沉积 详细摘要: Plasmalab System100 英国Oxford 等离子增强化学气相沉积,基本温度低,沉积速率快,成模质量好,针孔较少,不易龟裂。
产品型号: 所在地: 更新时间:2021-07-13 参考价: 面议 在线留言 -
英国Oxford OpAL 开放式样品载入原子沉积(ALD)设备 详细摘要: 英国Oxford OpAL 开放式样品载入原子沉积(ALD)设备,提供了专业的热ALD设备,可以简单明了的升级使用等离子体,使得在同一紧凑设备中集成了等离子体和...
产品型号: 所在地: 更新时间:2021-07-13 参考价: 面议 在线留言 -
Oxford System 100 等离子刻蚀与沉积设备 详细摘要: Oxford System 100 等离子刻蚀与沉积设备,是一个灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备。 采用真空进样室进样可进行快速的晶片更换、采用多种工...
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Auto500,Ats500英国HHV科研用真空镀膜机 详细摘要: Auto500是一套多功能的真空镀膜系统平台,主要用于科学研究、技术开发或试生产。其真空腔室采用了前开门的箱式设计,可以容纳大尺寸样品。通过可选择的设备配置能分...
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芬兰 PICOSUN R-200 标准型原子层沉积机ALD 详细摘要: 芬兰 PICOSUN R-200标准型原子层沉积机ALDPICOSUN R系列设备提供高质量ALD薄膜的沉积技术,并在各种各样的衬底上都表现的均匀性,包括挑战性...
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