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详细摘要： 德国 PVA TePla 等离子清洗机 IoN 100 WB , 是推出的具有高性价比的真空等离子清洗设备,可以迅速快捷的更换不同类型的电极结构。

详细摘要： IoN Wave 10E 德国 PVA TePla 等离子去胶机, 使用的、性能出色的组件和软件，可对工艺参数进行精确控制。

详细摘要： 德国 PVA TePla 等离子去胶机 IoN 100WB-40Q， 配备了一个圆筒石英腔，特别适用于半导体、LED、MEMS等领域的光刻胶灰化、打残胶、氮化物...

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详细摘要： 美国 Harrich PDC-MG 高集成度等离子清洗机，是一款超清洗设备, 采用气体作为清洗介质，在短时间内能**地清除被清洗物表面的有机污染物，其清洗能力达...

详细摘要： Diener Bell Jar 35 研究型等离子清洗机，是一种研究设备，其专为科学试验所研发。该设备即适用于热蒸发，溅射 ，电子束蒸发，SEM（扫描电子显微镜...

详细摘要： INTELLI-RAY 400W 紫外面光源，长寿命400W灯泡和抛物面型反射罩，可以照射2015cm的固化面积，光强分布均匀，UVA强度100mw/cm2。

详细摘要： NSR 1755i7B Nikon 6英寸分步重复光刻机，可用于125mm125mm掩模和100mm及150mm的晶圆高精度投影曝光，曝光精度可达500nm。

详细摘要： OAI 纳米压印模组 Nanoimprint Module，纳米压印模块（特色NIL技术），是一种模块化附件，可用于任何光刻机。 这种创新技术是由Hewlett...

详细摘要： OAI AML 晶元绑定机晶圆接合器，促进在高真空室中原位进行对准和接合。AML晶片接合器非常适合阳极接合，硅直接和热压接合应用。 这些特性使焊接机能够与几乎任...

详细摘要： OAI UV 紫外光源，是大面积准直光源。 该器件的输出功率高达10KW。 利用准直镜，UV光源重型是一种高效的紫外光源，适用于各种大规模应用。

详细摘要： OAI 6000 FSA 全自动上侧或后侧光刻机，用于生产的全自动，上侧或后侧光刻机

详细摘要： OAI 5000E 光刻机, OAI 5000E型大面积掩光刻机是一种*的高性能，全自动掩模对准器和曝光工具，可为大型平板应用提供超精密，，亚微米对准和分辨率。...

详细摘要： OAI 2000SM边缘曝光系统,OAI 2000AF曝光系统,OAI 2000型曝光系统可以配置为边缘曝光系统（2000SM）或曝光系统（2000AF）;这两...

详细摘要： OAI800型光学正面和背面光刻机系统, 是半自动,four-camera、光学正面和背面光刻机。它提供极其精确的(1碌m - 2 m碌)对准精度,旨在大大*红...

详细摘要： 美国 OAI 光刻机 Model200 型桌面掩模对准器系统，*手工操作，输出光谱范围:Hg: G(436海里),H(405海里),I(365nm)和310nm...

详细摘要： CHEMUSB4-VIS-NIR分光光度计，是一款小型系统，其包括下列组件：内置光源，一台USB4000型光谱仪，适用于1cm试管的支架以及高速电子设备。它能够...

详细摘要： RED TIDE USB650-UV-VIS教学用红潮光谱仪，波长范围为350～1000nm，配有650有效像素的检测器，可以在全光谱上显示650个数据点，或者...