循环水中各种缓蚀阻垢剂用量及配方

1）

聚磷酸盐

（

六偏磷酸钠、

三聚磷酸钠

）

阻垢剂。

使用时加入水中浓度为

0.5

～

10ppm

，

适合于低压锅炉。

①六偏磷酸钠

（NaPO3）6

，由磷酸二氢钠脱水经高温

（600

～

650

℃

）

处理后，急剧冷

却而制得。

- H5 c4 z4 R4 j: ]: 

p, I; F6 D

②三聚磷酸钠，即三磷酸钠

（Na5P3O10）

，由磷酸二氢钠和磷酸氢二钠充分混合，

加热脱水，再高温熔融而成。

' a+ f& h- 

X6 Q） \0 ~

（2）

膦酸盐阻垢剂

! B- @: D8 }4 w5 E

- ^7 {' S

常用的药剂有以下几种：

（ h% Z/ W8 T/ w; F$ H  C* _

①羟基乙叉二膦酸，结构式为：

别名为

HEDP

，含量为

50%

，为

**

透明粘稠液体，显强酸性

（pH=2

～

3）

，具腐性。

羟基乙叉二膦酸多由二氯化磷与醋酸等原料制成，其合成反应如下：

【用途】

HEDP

为阴极型缓蚀剂。在水溶液中，

HEDP

可解离成

5

个正、负离子，

可与金属离子形成六员环螯合物，尤其是与钙离子可以形成胶囊状大分子螯合物，

阻垢效果较佳。

   HEDP

与其它缓蚀剂、阻垢剂配合使用，具有协同效应，可提高药效。例如与

铬酸盐、钼酸盐、硅酸盐、亚硝酸盐、聚丙烯酸盐、锌盐等配合使用，多用于锅炉

水处理、冷却水的处理，使用量一般低于

1

～

3ppm

，适用于低、中压锅炉用水的处

理。

. m& @9 g9 f% Z* `9 a

: K0 W$ h

②乙二胺四甲叉四膦酸，其结构式为：

别名为

EDTMP

，其钠盐为棕

**

透明粘稠液体，含量为

28%

～

30%

，

pH=9

～

10

。

EDTMP

多由甲醛、乙二胺、二氯化磷为原料制成。其合成反应如下：

6 U, ~） ^' A# B  M

【用途】

EDTMP

为有机多元膦酸阴极缓蚀剂。在水中，

EDTMP

能解离成

8

个正、

负离子，可以和两个或多个金属离子螯合，形成两个或多个立体结构大分子粘状络

合物，松散地分散于水中，使钙垢的正常结晶破坏，减少垢的形成。

EDIMP

多用于

锅炉水的阻垢。加入水中浓度为

1ppm

，适用于中、低压锅炉。

③氨基*叉膦酸，其结构式为：

+ ]+ x（ F5 M4 L: z1 t, m

别名为

ATMP

，含量为

50%

，为淡

**

液体。本品多由二氯化磷、铵盐、甲醛等原

料反应制得，其反应原理为：

PCl3+3H2O→H3PO3+3HCl

3H3PO3+NH4Cl+HCHO→ATMP+CO2+3H2O

【用途】

ATMP

为阴型缓蚀剂。在水溶液中

ATMP

经解离成六个正离子和六个负离

子，能与水中

Ca

サ，

Mg

サ形成多元螯合物。这个大分子螯合物以松散的方式分散

于水中，使钙、镁等垢的正常结构遭到破坏，所以

ATMP

有阻垢效果。多用于锅炉

用水，印染用水、油田注水的防垢，一般用量为

3

～

10ppm

。

（3）

氨基化合物阻垢剂

6 G3 n6 y4 U） g

常用的药剂有：

5 y& b3 

x- 

B" d9 

[* l

①二乙撑三胺，其结构式：

H2N（CH2）2NH（CH2）2NH2 

②三乙撑四胺，其结构式：

: r9 g4 T1 t1 ]& b* J; T1 {, M

2 j& E# s6 \4 |（ x. _

 H2N（CH2）2NH（CH2）2NH（CH2）NH2

0 y* e- @1 q! c, A8 ^: w+ X

③四乙撑五胺，其结构式：

 H2N（CH2）2NH（CH2）2NH（CH2）2NH（CH2）2NH2

# i1 l# T9 f: l