液相剥离高纯度少层石墨烯分散机,物理法剥离石墨片层分散机,循环式机械法剥离石墨分散机,德国循环式石墨烯分散机,高纯度大片层石墨烯分散机,立式分体易装卸可降温研磨分散机,ikn中试型新材料研发型研磨分散机
石墨烯制备和应用上的难点普遍体现在“难分散、易团聚”问题上,因此想要充分发挥石墨烯功能,首要解决的就是石墨烯的分散问题。
在普通的高速搅拌机、高速分散机、胶体磨等的制备下易使原料细化不充分,同时由于机械作用力小,易使其团聚,而影响后续使用及产品质量。上海依肯将分散机与胶体磨进行改进,研发出了一款研磨分散机,在设备工作腔体*级高精度研磨头处能够充分细化物料粒度,同时细化后的物料紧接着进入第二级定转子间隙极为狭小的分散头中进行高速剪切分散离心运动,从而得到稳定性高的分散系,除了设备结构上的改进以外,更是在设备的转速上有了一个质的飞跃,打破国内3000转的极限,直接将转速提升至14000转的超高转速,作用效果更好。 详询上海依肯 工程师 林万翠
目前在石墨烯的制备上主要有超声波分散方法,机械剥离法,球磨法等。超声波分散方法制备超出的石墨烯质量好,纯度高,但是效率太低,球磨法制备的石墨烯容易破坏石墨烯的片层结构,机械剥离的石墨烯质量很高,剥离出来的一般是几百个纳米、或者微米的石墨烯片层。但是这种方法存在一些缺点如所获得的产物尺寸不易控制,无法可靠地制备出长度足够的石墨烯,一般用于石墨烯的性质研究,产量非常非常低,转移也很具有挑战,因此不能满足工业化需求。上海依肯经过数年的总结研发出的CMSD高剪切研磨分散设备保留了机械剥离法制备石墨烯的优点,同时在一定程度上改进了其产量低、产物尺寸不易控制的缺点。CMSD的基本原理是用过设备转动时产生的高剪切作用力来克服石墨层间的范德华力,从而使石墨烯得到分离,zui终得到高质量,粒径分布范围窄,均匀分散的微纳米级石墨烯悬浊液。
采用机械剥离法制备,石墨烯片层结构完整,碳含量高,缺陷少,导电性好。
上海IKN在石墨烯领域的应用成功,为石墨烯行业的发展提供了设备支持,得到了充分的认可。上海依肯研发的改良版胶体磨能够利用高剪切力将大量颗粒细化夹套、使团聚体解聚,同时具有*的分散作用力,能够将石墨烯在细化的同时分散匀化,是目前的分散石墨烯的设备,宁波、四川、湖南、上海、北京、安徽,江阴、深圳等众多石墨烯上中下游企业以及研究机构均和我司有合作,客户反馈制备出来的石墨烯既保留了大的比表面积,同时*的缩小了粒径分布,大大增加了浆料的稳定性,在制备石墨烯复合材料上也有着显著优势。
ikn中试型新材料研发型研磨分散机是经过依肯众多实验并总结后全新研发出的一类设备,是在传统胶体磨的基础上进行改进,添加了分散机的分散盘,使其在胶体磨研磨转子的高速(zui高转速21000转)研磨作用下瞬间进入分散盘中进行高剪切分散,同时由于在整个过程中除了有高速研磨作用及高剪切分散作用下,物料还同时承受着高频的液力剪切、离心挤压、液层摩擦、撞击撕裂和湍流等多种作用力,因此经IKN上海依肯研磨分散机研磨分散后浆料是均一、稳定、精细的高品质产品!
ikn研磨分散机CMSD2000系列设备选型表
型号 | 流量 L/H | 转速 rpm | 线速度 m/s | 功率 kw | 入/出口连接 DN |
CMSD2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 |
CMSD2000/5 | 1000 | 10500 | 41 | 11 | DN40/DN32 |
CMSD2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 |
CMSD2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN80/DN65 |
CMSD2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
CMSD2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到zui大允许量的10%
详情请接洽上海依肯 工程师 林万翠
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