双靶高真空磁控等离子溅射镀膜仪主要特点：
1、配置两个靶枪，一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜，一个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。
2、可制备多种薄膜，应用广泛。
3、体积小，操作简便。
双靶高真空磁控等离子溅射镀膜仪技术规格：
输入功率 | 单相220 VAC 50 / 60 Hz, 2000 W (包括真空泵和冷水机组) |
电源 | 两个溅射电源集成在一个控制箱中。 - 直流电源：用于涂覆金属材料的500 W功率。
- 射频电源：300 W功率，13.56 MHz频率，用于涂覆非导电材料。
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磁控溅射头 | 包括两个带有水冷套和百叶窗的2“磁控溅射头。 此产品页面中还提供了一个溅射头型号（在产品选项中）。 - 一个连接到 直流电源以涂覆金属材料
- 另一个连接到用于非导电材料的RF源
- 靶尺寸要求：2“直径
- 厚度范围：0.1 - 5 mm，适用于金属和非导电目标（包括背板）
- 包括一个不锈钢靶目标和一个研究级Al2O3靶 用于样品测试
定制涂膜机：两个不带射频的直流头; 两个没有DC的RF头; 可根据要求提供3个RF头。 |
真空室 | - 真空室：直径300毫米×300 mm高度，由不锈钢制成
- 视口：两片100毫米直径玻璃。一个固定；一个可拆卸清洁和更换
- 带气动电源杆的铰接式盖子可轻松更换靶
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样品台 | - 样品架是可旋转且可加热的台架，由带铜盖的陶瓷加热器制成
- 样品架尺寸：140 mm直径对于4"晶圆max
- 转速：1 - 20 rpm可调，均匀涂层
- 通过数字温度控制器，支架温度可在*高温度范围内调节至高500°C（max2小时），精度为+/- 1.0°C
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气体流量控制 | - 安装了两个精密质量流量控制器（MFC），允许两种类型的气体进入
- 流量: 0 – 200 mL/min可在触摸屏控制面板上调节
- 安装进气阀以进行真空释放
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真空泵站 | - 包括移动泵站，溅射涂膜机可以放置在工位底部
- 速度为80L/S的高速涡轮泵 与两级机械泵（220 L / min）相结合，可实现更大真空水平和更快的抽速。
- 与腔室连接的标准真空度：<4.0E-5 Torr。（带腔室烘烤的1.0E-6托）。
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水冷装置 | 包括一个数字温控循环冷水机组 - 制冷范围: 5~35 °C
- 流速: 16 L/min
- 泵压: 14 psi
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整体尺寸 | 盖子关闭: 48" × 28" × 32" 盖子打开: 48" × 28" × 37" |
净重 | 160 kg |
售后服务 | 货物发出后，CYKY提供一年免费售后服务，服务方式限于电话指导、视频指导、邮件指导、配件邮寄等远程。如需要派人现场服务，客户需要支付服务人员差旅费和出差期间的工资。 |
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