DENTON 磁控溅射及电子束蒸发薄膜沉积平台

DENTON 磁控溅射及电子束蒸发薄膜沉积平台：

DENTON 真空使创新成为可能，并已超过50年。

成千上万的薄膜沉积工具安装,包括一个大型的、在范围内安装的精密光学沉积系统——工程师和研究人员依靠DENTON 的薄膜创新驱动更高的吞吐量,更好的收益和低拥有成本(运营官),受益于综合服务和支持,和一个专门的研发项目,提供可行的技术。

探索者提供了薄膜工业中泛的配置和沉积模式:电子束蒸发、电阻蒸发、溅射、离子镀和离子辅助沉积。

DENTON 薄膜沉积平台

•R & D

•批量生产

•在线生产

•蒸发

•溅射

•PE-CVD

DENTON 的区别

你们的过程就是我们的过程。

我们与您合作设计一个系统，以解决您的确切薄膜涂装工艺的需要。当我们给你运送工具时，它已经准备好生产了。

•我们的系统规模可以满足您的生产需求

•我们永远相信客户

•支持网络

在DENTON，我们关心你的成功

•工厂验收测试

•个性化培训

•远程、实时支持

•CE / UL / CSA兼容系统

能溅射

电、磁、复合材料。柔性阴极，调整到冲击角也可用。

强大的控制系统

可在半手动模式或全自动模式与一个推动自动化，以减少系统停机时间。

Processpro升级提供:

1.所有登顿真空产品的一致性控制。

2.标准软件使其易于支持和避免昂贵的定制费用。

3.源代码为您的程序，以便您可以自定义您的程序。

4.网络功能使资源管理器

网络上支持实时、远程支持和升级的节点。

灵活的室大小

可容纳多达10英寸的衬底。

多个泵配置

多种扩散、低温和涡轮泵配置可用于满足您的预算和工艺。后方或底部安装的泵提供方便的访问服务，根据您的工作场所的需要。

典型的应用

PE-CVD

•材料研究

•小批处理系统

•3 d对象

•覆盖各种材料

溅射

•材料研究

•产品质量控制和质量保证

•半导体失效分析

•CD掌握

•纳米技术

•化合物半导体

•oled

蒸发

•材料研究

•离子辅助沉积(IAD)

•医疗设备

•电信

•CD掌握

•发射

•保护涂层

选项：