PICOSUN P-1000 Pro ALD 生产型原子层沉积机
技术参数：
衬底尺寸和类型
。156 mm x 156 mm硅片800～1000片/批次（双面/背对背）
。高达400 mm x 600 mm玻璃基板30～50片/批次（双面/背对背）
。大批量的3D产品（例如：钟表部件，珠宝，硬币，医疗植入部件，机械部件等）
。多孔，通孔，高深宽比（HAR）样品
工艺温度： 50 - 500 °C
基片传送选件：
。气动升降（手动装载，带叉车forklift cart）
。全自动转载，用工业机器人实现
前驱体：
。液态、固态、气态、臭氧源
。前驱源余量传感器，并提供清洗和装源服务
。8根独立源管线，最多加载12个前驱体源
重量： 2000 kg
尺寸：(W x H x D) 230 cm x 270 cm x 125 cm
选件： PICOFLOW™ 扩散增强器，N2发生器，尾气处理器，定制设计，与工厂软件连接服务。
验收标准： 标准设备验收标准为 Al2O3 工艺
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