德国 PVA TePla 等离子去胶机IoN Wave 10E等离子去胶机
IoN Wave 10E等离子去胶机是我们在微波等离子处理工艺中的产品。该批次式晶圆灰化设备成本低廉、尺寸适中、性能*，特别适用于工厂、科研院所等领域。
IoN Wave 10E使用的、性能出色的组件和软件，可对工艺参数进行精确控制。它的工艺监测和数据采集软件可实现的质量控制。该技术已经成功的应用于功率晶体管、模拟器件、传感器、光学器件、光电、MEMS/MOEMS、生物器件、LED等领域。
IoN Wave 10E占地面积很小，安装和维护简单。依靠微波等离子技术，该设备在提供*的光刻胶灰化速度的同时，的降低了产品暴露在静电放电（ESD）中。
*的功能性：
。台式设计，占地面积小
。石英腔室可容纳8寸的晶圆，最多同时装载25片6寸晶圆
。使用Windows操作系统的工业计算机控制
。符合Semi E95-1101要求的图形用户界面（GUI）
。软件提供了不同的用户访问权限：操作员、工艺编写、维护
。通过以太网进行远程工艺监测
。机载诊断功能和报警记录
。工艺编辑软件提供了快速灵活的步骤控制功能
。液晶触摸屏（LCD）操作面板
。基于在线网络的模拟、培训和支持程序
。安装简单快捷
典型应用
。 去除光刻胶
。 晶圆打胶
。湿法刻蚀前的晶圆清洁
。去除SU-8
。 刻蚀钝化层
。失效分析中的器件开封
。 清洁和表面活化
。化学微量分析中的低温材料灰化
。 过滤器和滤膜的清洁
规格参数
工作腔室
材质 ： 石英
尺寸 ：248mm直径 x 397 mm长
腔门处直径 ： 241mm
容积 ：19.2 升
工艺气体控制 ：最多至6路气体，MFC控制
基础压力 ：0.07 mbar (50 mTorr)
工艺压力 ： 0.5 – 1.5 mbar (375 – 1125 mTorr)
抽真空时间 ：大约1分钟
微波发生器
频率： 2.45 GHz
输出功率 ：1200W
供给需求
电源 ：220V，50 Hz，单相
工艺气体 ：输入压力1-2 Bar
压缩空气 ： 4-6 Bar，流速 56 升/分钟 （间歇式）
吹扫气体 ： 1.3-2.7 Bar，流速 28 升/分钟 （间歇式）
尺寸 宽/高/深 ： 775 x 749 x 781 mm
重量 135 千克
可选配置
。 推拉门
。 石英舟支撑杆
。温控板
。 1%精度的真空规
。 压力控制器
。指示灯柱
。 条形码阅读器
。 工艺气体切换器
。 光谱终点检测器
。 法拉第桶（次级等离子体）
。陶瓷腔室，耐化学腐蚀密封圈
。 打印机
。 油泵或干泵
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