CY-MSP210S-2DC桌面型双靶直流磁控镀膜仪本设备为实验室真空PVD镀膜仪,可用于金属薄膜的制备,在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用,也可实验室SEM样品制备。
名称 | 桌面型双靶直流磁控镀膜仪 |
型号 | CY-MSP210S-2DC |
特点 | 1.采用高真空不锈钢腔体,前开门式设计,门上配有石英观察窗,便于实验的观察记录。 2.配有旋转加热样品台,可以有效提高薄膜的均匀性和成膜的质量。 3.顶盖上装有一套挡板,可通过转动挡板切换两支靶,实现多层镀膜。 4.需要配合高真空分子泵组一起使用,用户可以选择进口品牌小型分子泵以进一步节省安装面积。 5.可选配膜厚仪组件,可实时监测膜厚数据,为实验工艺提供可靠参数。 |
技术参数 | 1. 供电电压 AC220V,50Hz 2. 整机功率 4KW 3. 载样台参数 尺寸 φ100mm;加热温度 *高500℃;控温精度 ±1℃;转速 1-20rpm可调 5. 磁控溅射头参数 数量 2个2”磁控溅射头;水冷 6. 真空腔体 尺寸φ210mm X 260mm H; 材料 不锈钢; 观察窗口 φ40mm;前开门式 7. 气体流量控制器 1路200sccm Ar; 8. 真空泵 分子泵组 前级泵 旋片泵 抽速 1.1L/s 次级泵 涡轮分子泵(国产) 抽速 600L/s 抽气口 KF40 出气口 KF16 9. 膜厚仪 石英振动薄膜测厚仪一台,分辨率0.10 Å 10. 溅射电源(2DC) 直流电源 2台,输出功率≤300W,输出电压≤600V,响应时间<5ms |