R-PECVD真空旋转等离子增强CVD设备（1200℃单温区 4路MFC）设备由旋转及倾斜机构、单温区管式炉、等离子发生机构、质量流量计供气系统、高真空分子泵组等部分构成。
特点
1. 相比于其他的石墨烯制备设备，能提供更高的基底真空，提高产物质量；2. 能够利用旋转和倾斜机构实现连续生产，使颗粒型样品表面均匀生长产物；
3. 等离子发生装置能够显著降低反应温度，提高反应效率。
技术参数
| 单温区管式炉 | 产品型号 | CY-O1200-100IT | |
| 炉管材质 | 高纯石英 | ||
| 炉管直径 | 100mm | ||
| 炉管长度 | 1500mm | ||
| 炉膛长度 | 440mm | ||
| 加热区长 | 400mm | ||
| 恒温区长 | 200mm | ||
| 工作温度 | 0～1100℃ | ||
| 控温精度 | ±1℃ | ||
| 控温模式 | 30段或50段程序控温 | ||
| 显示模式 | 高清全彩LCD触控屏 | ||
| 密封方式 | 304不锈钢真空法兰 | ||
| 供电电源 | AC:220V 50/60Hz | ||
| RF输出系统 | 功率范围 | 0~500W可调 | |
| 工作频率 | 13.56MHz+0.005% | ||
| 工作模式 | 连续输出 | ||
| 匹配阻抗模式 | 能够匹配，起辉均匀布满炉管 | ||
| 功率稳定度 | ≤2W | ||
| 正常工作反射功率 | ≤3W | ||
| 放大反射功率 | ≤70W | ||
| 谐波分量 | ≤-50dBc | ||
| 整机效率 | ≥70% | ||
| 功率因素 | ≥90% | ||
| 供电电压/频率 | 单相交流（187V~153V） 频率50/60Hz | ||
| 控制模式 | 内控/PLC 模拟量/RS232/485通讯 | ||
| 电源保护设置 | DC过流保护，功放过温保护，反射功率保护 | ||
| 冷却方式 | 强制风冷 | ||
| 起辉长度 | 在Ar下射频电源与线圈配合起辉辉光能布满炉管 | ||
| 供气系统 | 流量计 | 四路质子流量计 | |
| 流量范围 | MFC1量程：0~200sccm MFC2量程：0~200sccm MFC3量程：0~500sccm MFC4量程：0~500sccm 分别对应气体H2、 CH4、 N2、 Ar. | ||
| 测量精度 | ±1.5%F.S | ||
| 重复精度 | ±0.2%FS | ||
| 线性精度 | ±1%F.S. | ||
| 响应时间 | ≤4s | ||
| 工作压力 | -0.15Mpa~0.15Mpa | ||
| 流量控制 | 液晶触摸屏控制，数字显示，每路气体含有针阀单独控制 | ||
| 进气接口 | 可接1/4NPS或者外径6mm不锈钢管 | ||
| 出气接口 | 可接1/4NPS或者外径6mm不锈钢管 | ||
| 连接方式 | 双卡套接头 | ||
| 工作温度 | 5~45℃ | ||
| 气体预混 | 配气体预混装置 | ||
| 排气系统
| 产品型号 | CY-GZK103-A | |
| 分子泵 | 涡轮分子泵 | ||
| 前级泵 | 双级旋片泵 | ||
| 抽气速率 | 分子泵：600L/S | 综合抽气性能：30分钟真空度可达：5×10E-3Pa | |
| 旋片泵：1.1L/S | |||
| 极限真空 | 5×10E-4Pa | ||
| 抽气接口 | KF40 | ||
| 排气接口 | KF16 | ||
| 真空测量 | 复合真空计 | ||
| 旋转及倾斜装置 | 转速范围 | 0-20rpm | |
| 倾斜角度 | 0-15° | ||
| 进出料 | 自动进料，倾斜后可自动集料 | ||
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