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双靶直流磁控溅射镀膜仪

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具体成交价以合同协议为准
  • 公司名称郑州成越科学仪器有限公司
  • 品       牌
  • 型       号CY-MSP300S-2DC
  • 所  在  地
  • 厂商性质其他
  • 更新时间2023/2/16 9:06:02
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郑州成越科学仪器有限公司位于郑州*开发区863软件园内,是一家专业从事材料制备设备和材料制备原料代理的高科技公司。重点专注于CVD石墨烯制备设备、荧光粉烧结设备、氧化锆生物陶瓷烧结、纳米材料制备、电池材料制备、陶瓷材料的微波烧结、稀有金属的区域提纯等研究发展方向,立志做材料制备技术及设备和原料的提供商。 郑州成越科学仪器有限公司的“研发团队”凭借自身在热处理技术方面的专业知识和丰富的实践经验,先后研发出了多款材料制备设备。主要产品有:微波烧结炉、真空管式炉、箱式电阻炉、高频感应炉、氧化锆烧结炉、荧光粉烧结炉、晶体退火炉、电池材料烧结炉、旋转管式炉、立式管式炉、CVD管式炉等;其他的产品还有:等离子清洗机、真空手套箱、真空干燥箱、环境模拟测试柜、行星球磨机、高纯石英管、99刚玉管、真空法兰等。 郑州成越科学仪器有限公司 近年来,在社会各界的关心支持下,公司不断发展壮大,与国内外多所高校和科研单位建立起了合作关系;公司还聘请了多位国内外重点高校的教授,博导为公司常年的技术顾问,他们时刻与国内外学术界保持交流,出国访问,并亲临一线指导产品的生产和研发,使我公司的产品不断完善,并紧跟世界研究热点,推出相关的新产品。产品远销欧美、日韩等国家,并在国内外市场获得业界*。 如果您正在被国货的产品质量所困扰,选择我们将改变您对国货的某些观念;如果您正在为自己的实验方案的实施而茫然,选择我们将有专业的技术团队为您量身定做!如果您正在为故障设备的售后无人理会而发愁,选择我们一切的问题将由我们负责到底。
压片机
简单介绍: 双靶直流磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该双靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备
双靶直流磁控溅射镀膜仪 产品信息
详情介绍:

双靶直流磁控溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比磁控溅射镀膜设备,具有标准化、模块化、可定制化的特点。磁控靶有1英寸2英寸可以选择,客户可以根据所镀基板的大小自主选购;所配电源为两个500W直流电源,直流电源可用于金属薄膜的制备,两个靶可以满足多层或者多次镀膜的需要。

双靶直流磁控溅射镀膜仪

镀膜仪具有两路高精度质量流量计,客户若另有需求可以定制至多四路质量流量计的气路,以满足复杂的气体环境构建需求;仪器标配*的涡轮分子泵组,极限真空可达1.0E-5Pa,同时另有其他类型的分子泵可供选购。分子泵的气路由多个电磁阀控制,可以实现在不关泵的情况下打开腔体取出样品,大大提高了您的工作效率。本产品可以选配一体机工控电脑对系统进行控制,在电脑程序上可以实现真空泵组的控制、溅射电源的控制等绝大多数功能,可以进一步提高您的实验效率。

双靶直流磁控溅射镀膜仪适用范围:

双靶直流磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该双靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备。

双靶磁控溅射镀膜仪技术参数:

产品名称

双靶磁控溅射仪

溅射电源

安装有两个直流电源 直流(DC)电源:500W

真空腔体

真空腔体:300 mm Dia x 300 mm h,采用不锈钢制作 观察窗口: 100 mm diameter 腔体打开方式采用上顶开,使得换靶更加容易

磁控溅射头

仪器中安装有 2 个磁控溅射头,而且都带有水冷夹层,可通入冷却水 对靶材降温

两个溅射头与直流电源相连接,主要溅射导电性靶材

载样台

载样台尺寸:140mm dia.(*大可放置 4"的基底) 载样台可以旋转,其速度为:1 - 20 rpm (可调) 载样台*高可加热温度为 500℃,控温精度为+/- 1.0 °C

气体流量控制器

仪器内部安装有 2 个质量流量计 量程为:0-200sccm

真空泵

配有一套分子泵系统,采用一键式操作 80L/S

水冷系统

16L/min.

电压

220V 50HZ


 
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