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LPCVD

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具体成交价以合同协议为准
  • 公司名称北京环创科学仪器有限公司
  • 品       牌
  • 型       号LPCVD
  • 所  在  地北京市
  • 厂商性质其他
  • 更新时间2023/11/2 8:49:18
  • 访问次数208
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北京环创科学仪器有限公司是一家专注于环境试验设备、实验室仪器、超声波清洗设备及电子工艺设备的设计、制造和销售为一体的个性化企业。公司管理层由长期从事环境试验设备及设计工艺、生产管理和市场营销的高级专业人员组成,是一只经验丰富,勇于创新,精诚协作的团队;致力于为客户提供创新设计、环保、安全、节能、可靠品质的解决方案。

公司主要销售:环境试验仪器设备、理化室实验仪器设备、超声波清洗设备、恒温老化设备、工业热工设备、工业冷水设备、计量检定装置;并具有设计制造各种非标准、大型、超大型试验设备的技术生产能力。

公司具备有与航空、航天、兵工、船舶、通信、机械、石油、机车车辆、电工电子、高等院校、制药、合成材料、化工等领域长期合作的经验;熟悉这些领域里所有的试验方法,以及相关的国家标准和行业标准;承接对设备系统的设计、制造及售后全套的优质服务,保证了产品经久耐用、安全可靠、高效的精良品质。

公司本着“以质量赢得市场,以高效服务赢得口碑”的经营理念,严守自己的质量保证体系与售后服务体系。因此,公司在国内建立了完善的销售服务网络;除北京外,还在石家庄、济南、西安、武汉、苏州、成都、重庆、深圳等大城市设立了办事处与客户携手共创的产品和贡献的服务。

公司传承和弘扬“科学、诚信、创新”的精神,坚持为客户贡献高品质产品,高效率服务!我们实事求是,让“科学、现代、环保、高效”的环创与您一道共创辉煌!

综合稳定性试验箱
详细说明生产的系列热工设备:【LPCVD产品简介】LPCVD是用加热的方式在低压条件下使气态化合物在基片表面反应并淀积形成稳定固体薄膜
LPCVD 产品信息
详细说明

生产的系列热工设备:

【LPCVD产品简介】

  LPCVD是用加热的方式在低压条件下使气态化合物在基片表面反应并淀积形成稳定固体薄膜。由于工作压力低.气体分子的平均自由程和扩散系数大,故可采用密集装片方式来提高生产率,并在衬底表面获得均匀性良好的薄膜淀积层。LPCVD 用于淀积Poly-Si、Si3N4、SiO2、磷硅玻璃、硼磷硅玻璃、非晶硅及难熔金属硅化物等多种薄膜。广泛应用于半导体集成电路、电力、电子、光电子及MEMS等行业的生产工艺中。

【产 品 特 点】

◆对工艺时间、温度、气体流量、阀门动作、反应室压力实现自动控制。                                    

◆采用进口压力控制系统,闭环控制,稳定性强。 

◆采用进口耐腐蚀不锈钢管件、阀门,确保气路气密性。   

◆具有完善的报警功能及安全互锁装置。

◆具有良好的人机界面,灵活的工艺性能。

◆采用工控机技术,具有可靠地恒压调整控制功能。

【主要技术指标】

●适用硅片尺寸: 4~6"                                

●工作温度及精度: 350 ~ 1000℃±1℃                    

●恒温区长度:700mm  (可根据用户需要设计)                      

●升温速率:0 ~ 15℃/分钟  可调             

●系统极限真空度:0.8 Pa                             

●工作压力范围:30 ~ 200Pa 可调         

●淀积膜种类:Si3N4  SiO

●淀积膜均匀性:片内  <±3%;  片间  <±3%;  批间  <±4%

●淀积速率:200 ~300 Å/min (与淀积材料和工艺有关)

●操作方式: 手动、自动

●满足半导体集成电路,电力电子器件,光电子等行业用于在硅片上淀积Si O2、Si 3N4、Poly-Si、磷硅玻璃、硼硅玻璃、非晶硅及难熔金属硅化物等多种薄膜工艺

关键词:不锈钢管件
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