- 高速、准确
- 完整集成了实时测量、建模和报告软件包
- 便于在线和离线间切换
可获得的信息
- 薄膜厚度
- 光学常数(n,k)
- 材料组成
可获得的信息
UVISEL Plus在线监控椭偏仪可以很容易的安装在各类反应腔(PECVD、MOCVD、磁控溅射、蒸镀、ALD和MBE),实时监控薄膜沉积或刻蚀过程。
UVISEL Plus在线椭偏仪结合了速度快、灵敏度高、动态范围宽和准确等优点,使其能够在原子层水平监控沉积/刻蚀,即使过程速度比较快也可实现。
采用新型适配器组件可以实现台式设备和在线系统的切换。
UVISEL Plus在线椭偏仪使用DeltaPsi2软件驱动,该软件适用于HORIBA所有椭偏仪。DeltaPsi2具有众多*的建模和拟合处理功能,操作界面简单,可为研究者提供便捷的椭偏分析手段。*的通讯协议,TCP/IP和RS232已被设计用于生产环境和OEM。
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