甲岸科技微波等离子清洗机
甲岸科技等微波等离子清洗机适用于wafer制造领域的多功能等离子处理设备,从wafer制造的***率光刻胶去除工艺,wafer表面预处理工艺到芯片封装领域的等离子清洗工艺,满足用户对产品表面处理需求。
产品应用
适用于wafer晶圆光刻胶去除,wafer表面预处理工艺到芯片封装前处理
产品特点
- 能够解决表面清洗难题的同时提供改性活化作用,方便后续黏晶、封胶、点胶等等工艺
- 高均匀度分气装置,可满足高蚀刻速率、高均匀度工艺要求
- 附着力的提高可以让粘接更加牢固,减少分层,杜绝气泡
- 通过激光工艺打穿的小孔,溶剂难以清洗,而等离子体可以轻松进入
具体详情请资询 (微信同号)