等离子去胶机

甲岸小型等离子去胶机外观简洁，系统集成度高，模块化设计，适用于半导体、生物技术、材料等领域。性能优异，可提供***的工业控制、故障报警系统和数据采集软件。可满足科研生产的严格控制要求。

影响等离子去胶机使用的四大因素

一、调整合适的频率

频率越高，氧越容易电离形成等离子体。如果频率过高，使电子振幅短于其平均自由程，电子与气体分子碰撞的概率就会降低，导致电离率降低。通常，公共频率为13.56MHz和2.45GHz。

二、调整适当的权力

关于一定量的气体，功率大，等离子体中活性粒子的密度也高，脱胶速度也快；但当功率增加到一定值时，响应消耗的活性离子达到饱和，脱胶速度随功率的增加不明显增加。由于功率大，衬底温度高，需要根据技术要求调整功率。

三、调整合适的真空度

适当的真空度可以使电子运动的平均自由程更大，因此从电场中获得的能量更大，有利于电离。此外，当氧气流量必须准时时，真空度越高，氧气的相对份额越大，活性颗粒浓度越大。但如果真空度过高，活性粒子的浓度反而会降低。

四、氧气流量的调整

氧气流量大，活性颗粒密度大，脱胶速率加快；但如果通量过大，离子的复合几率增加，电子运动的平均自由程缩短，电离强度反而降低。如果回转室的压力不变，流量增加，则还增加了被抽出的气体量，也增加了不参与回转的活性颗粒量，因此流量对脱胶率的影响不是很显著。

选择【甲岸科技】等离子去胶机的理由：

1、可以根据客户需求定制。

2、小巧、操作简单、易维护。

3、进口针阀精密流量控制计，精度高。

4、引进德国核心等离子技术，质量有保障。

5、多路工艺反应气体通道，保证产品清洗效果。

6、316不锈钢材质，耐腐蚀，环保不产生金属污染。