当前位置：成都纽曼和瑞微波技术有限公司>>微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）设备>> HMPS-2120SP微波等离子体(CVD)系统
◆微波功率容量大、功率密度高；
◆沉积面积大、速率快、质量高；
◆安全可靠，满足单晶、多晶金刚石产业化生产运行；
◆第三代高稳定固态功率源，新型下馈式大容积碟形放电工作腔；
◆微波功率0.5~12kW连续可调，稳定度1%；
◆放电区Φ≥100mm；均匀沉积区Φ≥75mm；
◆工作气体：H2/CH4/N2/CO2或O2或Ar；
◆极限真空度：6×10-4Pa；真空漏率：10-9Pa·m3/s；
◆工作压力：0.1~30kPa；自动控制；
◆红外测温：600~1800℃（双色）；
◆PLC和15寸触摸屏多参数自动控制。
| （1） | 产品 | HMPS-2120SP |
| （2） | 微波源 | 12kW/2450MHz固态功率源 |
| （3） | 微波传输及耦合系统 | BJ-22/环行器/水负载/销钉/模式变换器耦合等 |
| （4） | 等离子放电工作腔及基片台系统 | Φ500同轴耦合蝶形腔，Φ100mm基片台 |
| (5) | 真空系统 | 600l/s分子泵、8l/s双级直联泵、进口真空测量规管 |
| (6) | 气体MFC系统 | 进口4(5)路质量流量计，过滤器、EP-1/4’VCR接头及管 |
| （7） | 测温及基片台冷却 | 进口(双色)红外测温，进口水温度流量传感器 |
| （8） | 控制系统 | PLC及触摸屏多参数自动控制操作 |
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