详细摘要： 简要描述：研究用真空烧结炉用石墨，钼屏或钨屏作发热体的高温真空电阻炉，额定温度为1000~2400℃。可供金属、难熔化合物及陶瓷材料等在真空或保护气氛中加热之用...

详细摘要： 简要描述：用于特种陶瓷（碳化硅、碳化硼、氮化硅等），高熔点金属、硬质合金以及其它粉体材料的高温烧结，也可用于对一些高熔点金属进行退火及光亮、除气处理等。

详细摘要： 简要描述：真空烧结炉是用石墨作发热元件的真空电阻炉，供金属化合物、陶瓷、无机化合物等在真空或保护气氛中烧结制品，也可用于金属材料的热处理。主要应用于电容、钽材等...

详细摘要： 简要描述：研究用真空烧结炉用石墨，钼屏或钨屏作发热体的高温真空电阻炉，额定温度为1000~2400℃。可供金属、难熔化合物及陶瓷材料等在真空或保护气氛中加热之用...

详细摘要： 简要描述：研究用真空烧结炉用石墨，钼屏或钨屏作发热体的高温真空电阻炉，额定温度为1000~2400℃。可供金属、难熔化合物及陶瓷材料等在真空或保护气氛中加热之用...

详细摘要： 简要描述：真空钨丝烧结炉用钨屏作发热体的高温真空电阻炉，额定温度为1000~2300℃。可供金属、难熔化合物及陶瓷材料等在真空或保护气氛中加热之用。