详细摘要： 简要描述：高温三温区管式气氛炉主要用于石墨、陶瓷、锂电池、稀有金属、稀土、生物材料等在气氛保护下进行烧结、镀膜、热处理、灰分测定等，也适用于石墨烯、碳纳米管、二...

详细摘要： 简要描述：低温单温区系列管式炉系周期作业，供企业、院校、研究机构等单位选用。设备为用户提供具有真空、可控气氛及高温的实验环境，应用在半导体、纳米技术、碳纤维等新...

详细摘要： 简要描述：这款管式炉以优质电阻丝为加热元件，采用双层壳体结构，厦门宇电30段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用进口高纯氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间...

详细摘要： 简要描述：这款管式炉以优质硅钼棒为加热元件，采用双层壳体结构，厦门宇电30段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用进口高纯氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间...

详细摘要： 简要描述：这款CVD系统集真空管式炉，多通道气路系统和真空系统组成，可根据用户需要设计生产（有双温区、三温区、多温区），可预抽真空（有高真空、低真空），通多种气...

详细摘要： 简要描述：适用范围：主要用于一般方法难以连接的材料结构，特别适于连接铝、钛含量较多的超级合金、不锈钢等金属材料，以及石墨、陶瓷等非金属材料该炉型加热室可采用石墨...

详细摘要： 简要描述：真空脱脂烧结一体炉主要用于真空烧结、真空热处理、高温真空烧结。适用于不锈钢基、硬质合金、高温合金、高比重合金、陶瓷材料、磁性材料、碳化物、硼化物、氮化...

详细摘要： 简要描述：本产品为周期作业式，结构借鉴国外同类产品,气动快速打开炉盖。适用于氮化硅陶瓷球，陶瓷刀具等材料在高压氮气或氩气气氛内进行烧结。有利于增加材料的烧结密度...

详细摘要： 简要描述：本款管式炉产品以电阻丝为加热元件，采用双层壳体结构和30段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，管式炉炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料，分为上下两个半圆，需...

详细摘要： 简要描述：气压烧结是指首先在低压状态下进行烧结工艺，然后在常压下烧结材料达到疲劳状态，后是在高气压下烧结（结果是进一步的增加材料疲劳状态并迅速的消除材料中的应力...

详细摘要： 简要描述：立式管式气氛炉主要用于玻璃、生物陶瓷、石墨烯、锂电正负极材料、晶体退火、LED发光材料等领域，进行气氛保护下对样品进行热处理、烧结、沉积镀膜、灰分测量...

详细摘要： 简要描述：PECVD工艺中由于等离子体中高速运行的电子撞击到中性的反应气体分子，就会使中性反应气体分子变成碎片或处于激活的状态容易发生反应；借助射频等使含有薄膜...

详细摘要： 简要描述：这款管式炉以优质硅钼棒为加热元件，采用双层壳体结构，厦门宇电30段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用进口高纯氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间...

详细摘要： 简要描述：气压烧结是指首先在低压状态下进行烧结工艺，然后在常压下烧结材料达到疲劳状态，后是在高气压下烧结（结果是进一步的增加材料疲劳状态并迅速的消除材料中的应力...

详细摘要： 简要描述：研究用真空烧结炉用石墨，钼屏或钨屏作发热体的高温真空电阻炉，额定温度为1000~2400℃。可供金属、难熔化合物及陶瓷材料等在真空或保护气氛中加热之用...

详细摘要： 简要描述：本产品主要供大专院校、科研单位及生产企业在真空或保护气氛条件下对金属材料（如不锈钢、镍基合金、铜、合金钢、镍钴合金、稀土钕铁錋等）的熔炼处理，也可进行...

详细摘要： 简要描述：旋转式管式炉专为烧结无机化合物获得较好的一致性而设计，适合航空航天、新能源，LED发光材料等行业，炉体可倾斜30，炉管可360旋转。炉子在旋转同时下可...

详细摘要： 简要描述：该系列电阻炉系周期作业，供加工行业、企业实验室、院校、研究机构等单位进行化学分析、物理测定、金属热处理以及粉末冶金行业的高温烧结、退火等使用。

详细摘要： 简要描述：该系列电阻炉系周期作业，供加工行业、企业实验室、院校、研究机构等单位进行化学分析、物理测定、金属热处理以及粉末冶金行业的高温烧结、退火等使用。

详细摘要： 简要描述：该型号气氛炉使用温度可达1700℃，专门设计用于对材料在惰性气氛及氧化气氛环境下进行烧结、热处理等工艺，适用于特种陶瓷、电子陶瓷、结构陶瓷、功能陶瓷、...