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化学气相沉积炉(CVD系统) 详细摘要: 简要描述:这款CVD系统集真空管式炉,多通道气路系统和真空系统组成,可根据用户需要设计生产(有双温区、三温区、多温区),可预抽真空(有高真空、低真空),通多种气...
产品型号: 所在地:上海市 更新时间:2024-03-11 参考价: 面议 在线留言 -
等离子增强化学气相沉积炉(PECVD系统) 详细摘要: 简要描述:PECVD工艺中由于等离子体中高速运行的电子撞击到中性的反应气体分子,就会使中性反应气体分子变成碎片或处于激活的状态容易发生反应;借助射频等使含有薄膜...
产品型号: 所在地:上海市 更新时间:2024-03-11 参考价: 面议 在线留言