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SI 500 等离子刻蚀机 详细摘要： ICP-RIE SI 500 德国Sentech等离子刻蚀机, 等离子刻蚀设备SI 500使用低离子能量的电感耦合等离子体用于低损伤刻蚀和纳米结构刻蚀。通过在广...
产品型号： 所在地： 更新时间：2021-07-13 参考价： 面议 在线留言 -
Etchlab200 经济型反应离子刻蚀机(可升级) 详细摘要： Etchlab200 德国Sentech 经济型反应离子刻蚀机(可升级), 具备低成本效益高的特点，并且支持揭盖直接放置样片。EtchLab 200 允许通过载...
产品型号： 所在地： 更新时间：2021-07-13 参考价： 面议 在线留言 -
200 RIE 离子刻蚀与沉积系统 详细摘要： 德国Sentech 200 RIE 离子刻蚀与沉积系统 ，将平行板等离子体源设计与直接负载相结合。根据其模块化设计，Etchlab 200可以升级为更大的抽油机...
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PE-ALD 等离子体增强原子层沉积机 详细摘要： PE-ALD 德国Sentech 等离子体增强原子层沉积机，是在3D结构上逐层沉积超薄薄膜的工艺方法。薄膜厚度和特性的精确控制通过在工艺循环过程中在真空腔室分步...
产品型号： 所在地： 更新时间：2021-07-13 参考价： 面议 在线留言