详细摘要： OAI 纳米压印模组 Nanoimprint Module，纳米压印模块（特色NIL技术），是一种模块化附件，可用于任何光刻机。 这种创新技术是由Hewlett...

详细摘要： OAI AML 晶元绑定机晶圆接合器，促进在高真空室中原位进行对准和接合。AML晶片接合器非常适合阳极接合，硅直接和热压接合应用。 这些特性使焊接机能够与几乎任...

详细摘要： OAI UV 紫外光源，是大面积准直光源。 该器件的输出功率高达10KW。 利用准直镜，UV光源重型是一种高效的紫外光源，适用于各种大规模应用。

详细摘要： OAI 6000 FSA 全自动上侧或后侧光刻机，用于生产的全自动，上侧或后侧光刻机

详细摘要： OAI 5000E 光刻机, OAI 5000E型大面积掩光刻机是一种*的高性能，全自动掩模对准器和曝光工具，可为大型平板应用提供超精密，，亚微米对准和分辨率。...

详细摘要： OAI 2000SM边缘曝光系统,OAI 2000AF曝光系统,OAI 2000型曝光系统可以配置为边缘曝光系统（2000SM）或曝光系统（2000AF）;这两...

详细摘要： OAI800型光学正面和背面光刻机系统, 是半自动,four-camera、光学正面和背面光刻机。它提供极其精确的(1碌m - 2 m碌)对准精度,旨在大大*红...

详细摘要： 美国 OAI 光刻机 Model200 型桌面掩模对准器系统，*手工操作，输出光谱范围:Hg: G(436海里),H(405海里),I(365nm)和310nm...

详细摘要： 日本JEOL大功率电子枪/电源EBG-300UA,JEBG-1000UB,JEBG-3000UB，是在真空中蒸发或熔解金属及氧化物的大功率电子束发生源，能在不断...

详细摘要： 日本JEOL JBX-9500FS　电子束光刻系统，是一款100kV圆形束电子束光刻系统，兼的产出量和定位精度，能容纳300mm的晶圆片和6英寸的掩模版，适合纳...

详细摘要： 日本JEOL JBX-6300FS 电子束光刻系统，在100kV的加速电压下能自动调整直径为（计算值）2.1nm的电子束，简便地描画出线宽在8nm以下（实际可达...

详细摘要： 日本JEOL JBX-3200MV 电子束光刻系统，是用于制作28nm～22/20nm节点的掩模版/中间掩模版（mask/reticle）的可变矩形电子束光刻系...

详细摘要： 日本JEOL JBX-3050MV 电子束光刻系统，用于制作45nm～32nm 节点的掩模版/中间掩模版（mask/reticle）的可变矩形电子束光刻系统。 ...

详细摘要： 日本电子JEOL JBX-8100FS 圆形电子束光刻系统, 高精密JBX-8100FS圆形电子束光刻系统，通过的设计优化，实现更简便的操作，更快的刻写速度，更...

详细摘要： 俄罗斯Optosystem准分子激光器CL7000，由于波长短（紫外），短脉冲宽度，高脉冲能量，是激光器家族不可替代的品种！应用上，准分子激光器在脉冲沉积镀膜（...

详细摘要： nanoArch科研级3D打印机M160 ，本套系统创新地使用了自动化的多材料送料系统，兼顾高精度和多材料打印，可支持同时打印4种树脂基复合材料进行层间或层内多...

详细摘要： nanoArch 3D打印机P140/S140 ，科研级3D打印系统，拥有10m的超高打印精度和10m的超低打印层厚，从而实现超高精度的样件制作，非常适合高校和...

详细摘要： nanoArch微纳3D打印机 P130/S130 ，科研级3D打印系统，拥有2m的超高打印精度和5m的超低打印层厚，从而实现超高精度的样件制作，非常适合高校和...

详细摘要： 瑞士NanoFrazor 3D纳米结构高速直写机，源于发明STM和AFM的IBM苏黎世研发中心，是其在纳米加工技术的研究成果。NanoFrazor纳米3D结构直...

详细摘要： 紫外光刻机用曝光灯HBO 200W/DC ，HBO 300W/S，HBO 1000W/D，HBO 5000W/S等型号，适用于苏斯光刻机，以及ASML阿斯麦，N...