详细摘要： URE-2000S/35L（A）型紫外双面光刻机，曝光面积：6 英寸，正面对准采用双目双视场对准显微镜：既可通过目镜目视对准，也可通过 CCD+显示器对准，光学...

详细摘要： URE-2000S/35L（B）型双面光刻机, 曝光面积：4 英寸, 正面对准采用双目双视场对准显微镜：既可通过目镜目视对准，也可通过 CCD+显示器对准，光学...

详细摘要： URE-2000S/25S 型双面光刻机，曝光面积：4 英寸（或 6 英寸），正面对准采用双目双视场对准显微镜：既可通过目镜目视对准，也可通过 CCD+显示器对...

详细摘要： OAI Model 212型桌面掩模对准系统, 输出光谱范围:Hg: G(436nm),H(405nm),I(365nm)和310nm,Hg-Xe: 260 n...

详细摘要： OAI Model 800E 型掩模对准系统，各种光谱范围选项:Hg灯:G(436nm),H(405nm)， I(365nm)和310nm线，Hg-Xe灯:26...

详细摘要： OAI 掩膜光刻机 Model 6000型，高吞吐量180 wph，灵活处理基板从2平方到12平方

详细摘要： OAI的面板级掩模光刻机 Model 6020S, 用于FOPLP型号6020S -半自动化或自动化,实现500mm x 500mm晶圆尺寸的FO-PLP加工.

详细摘要： MLA桌面无掩模光刻机

详细摘要： 日本Elionix 微细加式电子束曝光电子束直写机ELS-F125，是Elionix推出的世界上*加速电压达125KV的电子束曝光系统，其可加工线宽下限为5nm...

详细摘要： 日本Elionix 超高精密电子束光刻系统 ELS-F150, 是一个150千伏电子束光刻系统。支持单位纳米级用于高级研究的设备制造。

详细摘要： ELS-BODEN新型电子束光刻系统,高速扫描400MHz频率生产

详细摘要： DWL 66+激光光刻系统是具经济效益的高分辨率图像产生器, 具有多种直写模块，实现不同精度直写需求, 能于结构上进行灰度曝光

详细摘要： 德国海德堡 Heidelberg 激光直写光刻机 MLA150,德国高精密激光直写绘图机,非接触式曝光,可支持高效数位光刻与灰度光刻.

详细摘要： URE-2000/30Z 型光刻机,样片尺寸：3, 4,6,自动对准精度：0.7mm

详细摘要： URE-2000S 系列双面光刻机，对准精度：2 mm（双面,片厚 0.8mm），0.8mm（单面）

详细摘要： URE-2000 系列紫外单面光刻机，此系列包含六种型号：URE-2000A,URE-2000B,URE-2000/35,URE-2000/35A,URE-20...

详细摘要： AFMinSEM 德国 Nano analytik（ParcanNano)针尖电子束光刻与扫描电子显微镜组合系统,既可以在大气环境下实现样品快速表征，也可以集成...

详细摘要： SPL德国Nano analytik(ParcanNano)针尖电子束光刻机，基于扫描针尖低能电子场发射的原理、采用压阻式微纳米针尖和多维纳米定位与测量技术、在...

详细摘要： SII 德国 Nano analytik（ParcanNano ）纳米级精准定位的单离子注入机,基于新型扫描针尖精准定位的离子注入系统，实现有效控制注入半导体器...

详细摘要： AFM 德国 Nano analytik（ParcanNano）高速原子力显微镜，它使用主动式智能针尖，集传感器、驱动器和可功能化的针尖于一身，实现自激发和自传...