超纯水在工业中具有重要的应用价值。在半导体芯片制造过程中，无论是硅片清洗、蚀刻溶液的配制，还是光刻胶涂覆等环节，都需要使用超纯水。因为即使是微量的杂质，也可能导致电路短路或者性能下降，影响半导体器件的质量和寿命。在火力发电厂中，超纯水被用于锅炉给水，可以减少锅炉结垢，提高热效率，延长设备使用寿命；在核电厂中，超纯水是反应堆冷却和蒸汽生成的关键介质。此外，在药品生产和实验室分析、精细化工、电池制造、表面处理等领域也有广泛应用。

超纯水得名是因为它的水质纯度高，基本只含有氢原子和氧原子两种成分，不含有普通水中一般含有的金属离子、有机物、矿物质等成分。工业超纯水设备生产超纯水具有专业性，采用了“反渗透+EDI+抛光混床”的处理技术，确保出水水质稳定达标。

反渗透膜具有优良的离子过滤能力，采用了纳米级的分离材料设计，并且化学性质稳定、水渗透效果好、通量大。通过这项技术，可以实现对超纯水中除了水分子之外的杂质充分去除，无须高温蒸发回收蒸汽，也不需要化学反应沉淀离子和矿物质。因而，它具有能耗低、出水水质稳定的优势。

工业超纯水设备中的EDI技术实现了超纯水深度脱盐，能实现带电荷运行，加快了超纯水中的离子迁移速度，制水时的脱盐效果大大提高。抛光混床技术是工业超纯水设备中的末端技术，是保障出水水质最后的“守门员”，发挥着举足轻重的价值。

由此可见，工业超纯水设备的技术设计强大，具有能耗低、自动化强、无污染、无死水的优势，在超纯水生产中具有专业性。