OTF-1200X-80-II-4CV-PE-SL 是一款滑动式双温区PECVD 管式炉系统。该系统包含500W等离子源, 80Dx1600L mm 滑动式双温区管式炉, 4通道质量流量供气系统和无油机械泵机组,这款 PECVD系统可用于生长纳米或石墨烯。
技术参数
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产品优点 | - 与传统的CVD相比,只需较低的制备温度
- .滑轨式可快速加热和快速冷却
- 两个加热区,温度梯度可达 200ºC
- 工作温度1100°C
- 提供一个宽范围的材料制备 ,如碳和 ZnO 纳米管或纳米线以及单层石墨烯。
- 内炉膛表面涂有美国进口的高温氧化铝涂层可以提高设备的加热效率,同时也可以延长仪器的使用寿命
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等离子发射源 | - 输出功率: 5 -500W ± 1% .
- 射频频率: 13.56 MHz ±0.005% .
- 反射功率: 200W
- 匹配: 自动
- 射频接口: 50 Ω, N-type
- 噪音: <50 dB.
- 冷却: 风冷.
- 电源: AC 208-240V, 50/60Hz
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无油真空泵机组 | - Pfeiffer(德国)高速( 226L/min) 无油干泵, 极限真空10E-3 Torr L
- KFD25 快接,不锈钢波纹管,手动挡板阀与法兰,真空泵相连.
- 管内真空可达10E-2 Torr
- 数字真空计 ( 美国) 安装在左法兰上.
- 可选:本公司进口的防腐型数字式真空显示计,其测量范围为3.8x10-5 至 1125 Torr. 不需因测量气体种类不同而需要系数转换。
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质量流量计 | 四个精密的质量流量计(精度0.02% ) :数字显示,自动控制. - MFC 1范围: 0~100 sccm
- MFC 2和3: 0~200 sccm
- MFC 4范围: 0~500 sccm
- 一个混气罐,底部装有泄废液口.
- 4 个不锈钢针阀安装在供气系统的左侧,可手动控制4种气体.
- 进气口: 4个1/4NPS.
- 出气口: 4个 1/4NPS.
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控温软件 | - 计算机可以通过控温软件控制炉子:RS485 接口和软件是免费的,但需要购买数据线和一个控制模块
- 为了获得较大的升温速度, 必须预热到设定温度,然后将炉子滑到样品位置。
- 为了获得较快的降温速度,可将加热的炉子从热区滑到冷区.
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水循环冷却器 | - 水冷法兰要求:水流量 >= 10L/M .
- 可以用自来水进行水冷,为了节约水资源,我们建议使用水循环冷却器。
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总尺寸 | - 炉体: 550 x 380 x 520 mm
- 滑轨: 1750 mm 长
- 移动架: 1200 x 1200 x 600mm.
- 净重: 220 Lbs.
- 运输重量: 500lbs.
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质保期和认证 | 一年质保期 (耗材部分:如炉管,“O”型高温密封圈,加热元件等不在保修范围) CE 认证 |