OTF-1200X-50-PE-S是一款小型的PE-CVD（等离子体气相沉积）管式炉系统。此套设备带有500W的等离子射频电源，一个炉管直径为50mm的开启式管式炉（带有真空法兰和连接管道）和一个直联式双旋机械泵。因此这套设备模型可以更新为不同的PECVD 系统。对于有限的经费的情况下来进行材料探索，此套系统极为理想。
特征
- 与普通CVD相比可以在低温环境下进行气相沉积实验
- 对于薄膜的应力可以通过射频电源的频率来进行控制
- 通过工艺调节来控制化学计量
- 能够广泛地用于各种材料沉积，如SiOx, SiNx, SiOxNy 和无定型硅(a-Si:H) 等.
技术参数
| 开启式管式炉 | - 输入电源：208 – 240V AC, 1.2kW
- 工作温度1200℃（小于1小时）
- 连续使用温度1100℃
- 采用高纯氧化铝作为炉膛材料，并且表面涂有美国进口高温氧化铝涂层，可延长仪器使用寿命和提高加热效率
- 高纯石英炉管，尺寸为 50mmOD x 44mmID x 780mmL
- 可设置30段升降温程序，并带有过热和断偶保护
- 加热区长度为200mm,恒温区长度为60mm(+/-1°C)
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| 等离子体射频电源
| - 输出功率: 5 -500W可调
- 稳定性为+/-1%
- 射频电源频13.56 MHZ, 稳定性±0.005%
- 反向功率: 200W max
- 射频电源电子输出口: 50 Ω, N型半岛体, 阴极
- 噪声<50 dB.
- 冷却方式：空气冷却
- 输入电源: 208-240VAC, 50/60Hz
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| 真空法兰和接头 | - 真空法兰采用304不锈钢制作
- 左端法兰上安装有防腐型数字真空计、不锈钢针阀和一个球阀。
- 右端法兰设计为KF25接口，上面配有泄气阀，挡板阀和两个KF25卡箍
- 仪器中所配的数字真空计，可以不用因使用气体的不同而进行校正，同时还具有防腐功能
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| 真空泵 | - AC 220V 50 Hz 1/2HP 375W
- 2L/s
- 与本公司管式炉配套使用，可使其真空度达到10-2 torr
- 进气端带有储气球（防止回油），出气端安装有油雾过滤器（防止油雾扩散到空气中，保护环境和人体健康）
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| 产品尺寸和重量 | 外形尺寸：1500mm x 600mm x 1200mm( L x W x H) 净重: 160 lbs |
| 可选配置 | - 防腐型小型三路浮子混气系统
- 精密气液混合系统
- 三路质子混气系统
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| 质保期 | 一年质保期，终生维护（不包括炉管、硅胶密封圈和加热元件） |
| 质量认证 | CE Certified |
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