一、设备特点:
该设备为Φ1200x6000水冷真空腔室,配移动式公自转工装架,工装架装载量10-20只,公自转工装架点对点自动运行;设备带偏压清洗及辅助沉积功能,工艺加热温度300℃;设备配5只圆柱靶或内装平面靶;可镀Au、Ag、AL、Mo、Cu、Ti等多种底层金属,及由AL、Ti、Si等构成的多层陶瓷膜;系统满足光干涉膜、金属陶瓷膜等多种选择性吸热膜的研制和小批生产。
二、性能参数:
1. 工件长度:长度规格2米、4米
2. 不锈钢金属管直径范围:Φ70mm-120mm
3. 吸收率≥95%
4. 发射率 ≤9%(300℃)
5. 镀膜方式:磁控溅射沉积选择性吸收膜
6. 设备产能:2万支/年(20只装)
7. 极限真空:8x10-4Pa,本底真空:3.2x10-3Pa;
8. 工艺加热温度:300℃ 铠装加热组件;
9. 磁控靶:5个;
10. 磁控电源:直流 1套 中频 2套;
11. 偏压电源:1套;
控制系统:PC+PLC控制模式,自动/手动/修理调试功能转换;多种工艺参数储存,多种互锁安全保护;