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2000℃研究用真空烧结炉
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2024-03-11 19:55:00
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简要描述:研究用真空烧结炉用石墨,钼屏或钨屏作发热体的高温真空电阻炉,额定温度为1000~2400℃。可供金属、难熔化合物及陶瓷材料等在真空或保护气氛中加热之用。
图片来源:
https://www.zyzhan.com/chanpin/4101053.html
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