2024-05-30 11:05:42162
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- 产品型号:
- 厂商性质:其他
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- 所在地区:北京市
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该设备用于通过磁控溅射法沉积金属薄膜、陶瓷膜、介质膜等，用户可以根据工艺的需要选择单靶独立工作、四靶轮流工作或四靶任意组合共溅等工作模式。该设备由主腔室和预备室两个真空室组成。主腔室用于镀制薄膜，完成
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