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详细介绍
应用范围
碳化硅刻蚀
刻蚀后表面清洁
氧化硅或氮化硅刻蚀
刻蚀后表面清洁
介质与介质间光阻去除
表面残留物清除
产品优势
暂无数据
应用案例
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设备整体参数
| 自动化程度 | 半自动 |
| PLASMA电源 | RF+BIAS |
| 尺寸（L*W*H） | 1140*1050*1620mm |
| 适用范围 | 4-8寸 |
| 单次处理片数 | 1 |
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