详细介绍
双靶高真空磁控等离子溅射镀膜仪主要特点:
1、配置两个靶枪,一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,一个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。
2、可制备多种薄膜,应用广泛。
3、体积小,操作简便。
双靶高真空磁控等离子溅射镀膜仪技术规格:
输入功率 | 单相220 VAC 50 / 60 Hz, 2000 W (包括真空泵和冷水机组) |
电源 | 两个溅射电源集成在一个控制箱中。
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磁控溅射头 | 包括两个带有水冷套和百叶窗的2“磁控溅射头。 此产品页面中还提供了一个溅射头型号(在产品选项中)。
定制涂膜机:两个不带射频的直流头; 两个没有DC的RF头; 可根据要求提供3个RF头。 |
真空室 |
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样品台 |
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气体流量控制 |
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真空泵站 |
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水冷装置 | 包括一个数字温控循环冷水机组
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整体尺寸 | 盖子关闭: 48" × 28" × 32" 盖子打开: 48" × 28" × 37" |
净重 | 160 kg |
售后服务 | 货物发出后,CYKY提供一年免费售后服务,服务方式限于电话指导、视频指导、邮件指导、配件邮寄等远程。如需要派人现场服务,客户需要支付服务人员差旅费和出差期间的工资。 |