双靶DCRF磁控溅射镀膜仪(靶...

名称

双靶DCRF磁控溅射镀膜仪(靶下置型)

CY-MSP500S-DCRF-B

1.能量高速度快

2.采用靶下置布局，样品台在上方，

3.基片与靶面高度可通过程序**可调，并且可旋转加热
4.采用单靶独立、多靶轮流或组合共溅，向心溅射
5.用于各种单层膜、多层膜和掺杂膜系
6.PC+PLC全自动控制

1.  供电电压 AC220V，50Hz

2.  整机功率 6KW
3.  极限真空度 5x10-4Pa
4.  载样台参数 
     尺寸 φ150mm；加热温度 *高500℃；控温精度 ±1℃；高度：上下70mm可调，转速 1-20rpm可调
5.  磁控溅射头参数 
     数量 2个2"磁控溅射头；冷却方式  10L/min流速的循环水冷机
6.  真空腔体 
     尺寸 φ500mm X 490mm H； 材料 不锈钢； 观察窗口 φ100mm；上顶开式，便于更换靶材
7.  气体流量控制器 1路200sccm Ar； 
8.  真空泵 配有一套分子泵系统，抽速600L/S
9.  膜厚仪 石英振动薄膜测厚仪一台，分辨率0.10 Å
10. 溅射电源（1DC 1RF）
     直流电源，500W，适用于制备金属膜
     射频电源，500W，适用于非金属镀膜
11. 操作方式 一体机电脑操作

整机尺寸 1090mm X 900mm X 1250mm

整机重量 350kg