制药网
详细介绍
详情介绍：
本设备为双靶磁控镀膜仪，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室SEM样品制备。
本套配置采用高真空不锈钢腔体，前开门式设计，门上配有石英观察窗，便于实验的观察记录。同时设备配有旋转加热样品台，可以有效提高薄膜的均匀性和成膜的质量。顶盖上装有一套挡板，可通过转动挡板切换两支靶，实现多层镀膜。
本设备需要配合高真空分子泵组一起使用，用户可以选择进口品牌小型分子泵以进一步节省安装面积。
同时该型号可选配膜厚仪组件，可实时监测膜厚数据，为实验工艺提供可靠参数。
双靶磁控镀膜仪参数：
| 样品台 | 尺寸 | 100mm | 加热温度 | ≤500℃ |
| 旋转速度 | 1-20r/min | 控温精度 | ±1℃ | |
| 磁控溅射头 | 数量 | 2英寸 x2 | 冷却方式 | 水冷 |
| 真空腔体 | 腔体尺寸 | φ210mm X 260mm | 观察窗口 | φ40mm |
| 腔体材料 | 不锈钢 | 开启方式 | 前开门式 | |
| 电源配置 | 直流电源数量 | 1台 | 输出功率 | ≤300W |
| 输出电压 | ≤600V | 响应时间 | ＜5ms | |
| 水冷系统 | 水箱容积 | 9L | 流量 | 10L/min |
| 膜厚仪 | 测量精度 | 0.1埃米 | 冷却方式 | 水冷 |
| 其他 | 供电电压 | AC220V,50Hz | 整机功率 | 4kw |
| 分子泵组 | 前级泵 | 旋片泵 | 抽速 | 1.1L/s |
| 次级泵 | 涡轮分子泵（国产） | 抽速 | 600L/s | |
| 抽气口 | KF40 | 出气口 | KF16 |
制药网