详细介绍
详情介绍:
CY-MSP210S-2DC桌面型双靶直流磁控镀膜仪本设备为实验室真空PVD镀膜仪,可用于金属薄膜的制备,在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用,也可实验室SEM样品制备。
名称 | 桌面型双靶直流磁控镀膜仪 |
型号 | CY-MSP210S-2DC |
特点 |
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技术参数 | 1. 供电电压 AC220V,50Hz 2. 整机功率 4KW 3. 载样台参数 5. 磁控溅射头参数 6. 真空腔体 7. 气体流量控制器 1路200sccm Ar; 8. 真空泵 分子泵组 前级泵 旋片泵 抽速 1.1L/s 9. 膜厚仪 石英振动薄膜测厚仪一台,分辨率0.10 Å 10. 溅射电源(2DC) |