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详细介绍
详情介绍：
本设备为偏置靶型单靶磁控镀膜仪，磁控靶偏置于腔体一侧，溅射范围可覆盖样品台一半，通过样品台旋转可以实现更大样品的均匀镀膜。理论*大支持样品直径为180mm。设备外形为桌面级别，大大减少了安装场地需求。设备配有一个直流电源，可用于金属及其他导电材料的溅射。设备真空系统采用涡轮分子泵组，抽气速度快，极限真空度高，真空性能优异。本设备结构紧凑功能完善便于使用，非常适合用于各类镀膜试验。
偏置靶型单靶磁控镀膜仪技术参数：
| CY-MSP300G-RB （rotate bias） 桌面型大腔体偏置靶单靶磁控镀膜仪 | ||||
| 样品台 | 尺寸 | φ150mm | 转速 | 转速0-20rpm可调 |
| 磁控溅射靶 | 数量 | 2" x1 偏置于腔体一侧 |
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| 真空腔体 | 腔体尺寸 | φ300mm X 200mm | 观察窗口 | 全向可视 |
| 腔体材料 | 高纯石英 | 开启方式 | 顶盖拆卸式 | |
| 下法兰 | 装有旋转式样品台及进出气口 | |||
| 真空系统 | 机械泵 | 双级旋片泵 | 抽气接口 | KF16 |
| 分子泵 | 涡轮分子泵 | 抽气接口 | KF40 | |
| 真空测量 | 电阻规+电离规复合真空计 | 排气接口 | KF40 | |
| 极限真空 | 1.0E-3Pa | 供电电源 | AC 220V 50/60Hz | |
| 抽气速率 | 前级泵 1.1L/s 分子泵：60L/S | |||
| 电源配置 | 数量 | 直流电源 x1 | *大输出功率 | 直流电源300W |
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其他 | 供电电压 | AC220V,50Hz | 整机尺寸 | 500mm X 320mm X6200mm |
| 整机功率 | 2kW |
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