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详细介绍
详情介绍：
本设备为桌面型单靶磁控镀膜仪。设备经过小型化设计，将设备外形限制在了桌面级别，大大减少了安装场地需求。设备配有一个直流电源，能够用于溅射金属材料，具有速度快温升低等特点。
单靶磁控镀膜仪技术参数：
桌面型单靶磁控镀膜仪 样品台 尺寸 φ100mm 加热 *高500℃ 转速 0-20可调 磁控溅射靶 数量 2" x1 真空腔体 腔体尺寸 φ180mm X 215mm 观察窗口 全向透明 腔体材料 高纯石英 开启方式 上盖拆卸式 真空系统 机械泵 旋片泵 分子泵 涡轮分子泵 真空测量 电阻规+电离规 抽气接口 KF16 抽气接口 KF40 排气接口 KF16 极限真空 1.0E-4Pa 供电电源 AC 220V 50/60Hz 抽气速率 机械泵1.1L/s 分子泵600L/s 电源配置 数量 直流电源 x1 *大输出功率 直流电源150W 其他 供电电压 AC220V,50Hz 整机功率 2kW 整机尺寸 550mm X 350mm X400mm
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