带过渡舱型双靶磁控溅射镀膜仪

产品名称

带过渡舱型双靶磁控溅射镀膜仪

产品型号

CY-MSP325G-2T-DVC-2DC（double vacuum chamber）

安装条件

1、使用环境温度 25℃±15℃，湿度 55%Rh±10%Rh；

2、设备供电：AC220V，50Hz，必须有良好接地；

3、额定功率：5000w；

4、设备用气：设备腔室内需充注氩气清洗，需客户自备氩气，纯度 ≥99.99%；

5、摆放场地尺寸要求 1200mm×1200mm×2000mm；

6、摆放位置要求通风散热良好。

技术参数

1、 溅射电源：直流电源500W x2；*大输出电压600V，极限输出电流1000mA

2、 磁控靶：2英寸平衡靶，配磁耦合挡板；

3、 磁控靶适用靶材： φ50mm x 3mm厚导电金属靶材

4、 腔体尺寸：主腔体φ325mm x 410mm；过渡腔体150x150x150mm

5、 腔体功能：主腔体配有密封圈密封的侧开门，带挡板的石英观察窗，及转移样品用的手动操作杆。过渡腔体配有密封圈密封的带石英视窗的上盖，运送样品进主腔体的磁耦合推杆，独立的真空系统。

6、 腔体材质： 不锈钢304

7、 旋转加热样品台：转速1~20rpm  连续可调；加热温度*高500℃，升温速度推荐10℃/min，*高20℃/min。

8、 冷却方式：磁控靶及分子泵需要循环水冷机；

9、 水冷机：水箱容积9L，流速10L/min

10、 供气系统：质量流量计， 气体类型Ar气，流量1~200sccm（可定制）；

11、 流量计精度：±1.5%量程

12、 真空腔体抽气接口为 CF160；

13、 进气接口为 1/4 英寸双卡套接头；

14、 显示屏为14工控电脑一体机；

15、 可调节溅射电流，可设置溅射安全电流值、安全真空值；

16、 安全保护：过流、真空过低自动切断溅射电流；

17、 真空系统：主腔体配有CY-GZK103高真空分子泵组，分子泵抽速600L/s；过渡腔体配有小型分子泵组，分子泵抽速60L/s。两组真空系统可独立工作和控制，腔室之间及真空系统内的气动阀均有程序控制，可实现一键动作，方便快捷。

18、 极限真空：5E-4Pa(搭配分子泵)；

19、 真空测量为复合真空计，其量程为：10^-5Pa～10⁵Pa

注意事项

1、 为了达到较高的无氧环境，至少要用高纯惰性气体对真空腔体清洗 3 次。

2、 磁控溅射对进气量比较敏感，需要使用质量流量计控制进气量。

3、 设备不使用时应将腔体保持真空。

4、 长时间未抽真空，再次使用时应进行除气操作，以提高真空性能。

可选配件

膜厚监测仪

1、膜厚分辨率：0.0136Å（铝）

2、膜厚准确度：±0.5%，取决于过程条件，特别是传感器的位置， 材料应力，温度和密度

3、测量速度：100ms-1s/次，可设置测量范围：500000Å（铝）

4、标准传感器晶体：6MHz

5、适用晶片频率：6MHz 适用晶片尺寸：Φ14mm 安装法兰：CF35

其他配件

1、CY-CZK103系列高性能分子泵组（含复合真空计，测量范围10^-5Pa~10⁵Pa）；

CY-GZK60系列小型分子泵组（含复合真空计，测量范围10^-5Pa~10²Pa）

VRD-4双极旋片真空泵；

2、KF25/40真空波纹管；长度可选0.5m、1m、1.5m；KF25卡箍支架

3、膜厚仪晶振片；