制药网
详细介绍
详情介绍：
双靶磁控溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比磁控溅射镀膜设备，具有标准化、模块化、可定制化的特点。磁控靶有1英寸2英寸可以选择，客户可以根据所镀基板的大小自主选购；所配电源为两个500W直流电源，直流电源可用于金属薄膜的制备，两个靶可以满足多层或者多次镀膜的需要。
镀膜仪具有两路高精度质量流量计，客户若另有需求可以定制至多四路质量流量计的气路，以满足复杂的气体环境构建需求；仪器标配*的涡轮分子泵组，极限真空可达1.0E-5Pa，同时另有其他类型的分子泵可供选购。分子泵的气路由多个电磁阀控制，可以实现在不关泵的情况下打开腔体取出样品，大大提高了您的工作效率。本产品可以选配一体机工控电脑对系统进行控制，在电脑程序上可以实现真空泵组的控制、溅射电源的控制等绝大多数功能，可以进一步提高您的实验效率。
双靶磁控溅射镀膜仪适用范围：
双靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该双靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备。双靶磁控溅射镀膜仪技术参数：
| 产品名称 | 双靶磁控溅射仪 |
| 溅射电源 | 安装有两个电源 直流（DC）电源：500W |
| 真空腔体 | 真空腔体：300 mm Dia x 300 mm h，采用不锈钢制作 观察窗口： 100 mm diameter 腔体打开方式采用上顶开，使得换靶更加容易 |
| 磁控溅射头 | 仪器中安装有 2 个磁控溅射头，而且都带有水冷夹层，可通入冷却水 对靶材降温 两个溅射头与直流电源相连接，主要溅射导电性靶材 |
| 载样台 | 载样台尺寸：140mm dia.（*大可放置 4"的基底） 载样台可以旋转，其速度为：1 - 20 rpm （可调） 载样台*高可加热温度为 500℃，控温精度为+/- 1.0 °C |
| 气体流量控制器 | 仪器内部安装有 2 个质量流量计 量程为：0-200sccm |
| 真空泵 | 配有一套分子泵系统,采用一键式操作 80L/S |
| 水冷系统 | 16L/min. |
| 电压 | 220V 50HZ |
制药网