Hakuto 离子蚀刻机 IBE 技术参数:
Hakuto 离子蚀刻机 IBE 技术规格:
型号 | 离子蚀刻机 7.5IBE | 离子蚀刻机 10IBE | 离子蚀刻机 20IBE-C | 离子蚀刻机 20IBE-J |
适用范围 | 适用于科研院所,实验室研究 | 适合小规模量产使用和实验室研究 | 适合中等规模量产使用的离子刻蚀机 | 适合大规模量产使用的离子刻蚀机 |
基片尺寸 | Φ4 X 1片或 | Φ8 X 1片 | Φ3 inch X 8片 | Φ4 inch X 12片 |
离子源 | 8cm 或 10cm | 10cm 考夫曼离子源 | 20cm 考夫曼离子源 | 20cm 考夫曼离子源 |