陶瓷盘清洗机-
设备名称:陶瓷盘清洗机-华林科纳
设备外型结构及主要参数
控制模式: 手动控制模式 自动控制模式。
清洗对象:陶瓷盘
设备形式: 室内放置型。
尺寸(参考,详见图纸,含地脚):3000 mm(L)× 1500 mm(W)× 2200 mm(H)。
机台总体结构暂定分为两部分,机械运行机构装置与机台前方;机台前方为清洗工作区域及机械行走区,机台后上方为电器和气路布置区域,后下方为液路布置区域。
半导体设备;
,,
华林科纳半导体设备技术有限公司成立于2008年3月,投资4500万元。主要从事半导体设备、液晶湿制程设备、太阳能光伏设备、蓝宝石加工设备的研发、技术推广和生产销售。
公司一直秉承“以质量为生存,以创新求发展”的经营理念,不坚持比客户对自己的需求了解更多,以优质的产品和优良的服务赢得了各界用户的赞许和信赖。
华林科纳公司通过与上公司的广泛合作,目前已形成湿法清洗系统、刻蚀系统、CDS系统、尾气处理系统的四大系列数十种型号的产品,广泛应用与大规模集成电路、电力电子器件、分立器件、MEMS和太阳能电池等领域。
主要设备有:配液机 IPA干燥机 化学品恒温机 、化学试剂分装机、湿法清洗系统、刻蚀系统、CDS系统、尾气处理系统
陶瓷盘清洗机-
设备名称:陶瓷盘清洗机-华林科纳
设备外型结构及主要参数
控制模式: 手动控制模式 自动控制模式。
清洗对象:陶瓷盘
设备形式: 室内放置型。
尺寸(参考,详见图纸,含地脚):3000 mm(L)× 1500 mm(W)× 2200 mm(H)。
机台总体结构暂定分为两部分,机械运行机构装置与机台前方;机台前方为清洗工作区域及机械行走区,机台后上方为电器和气路布置区域,后下方为液路布置区域。
半导体设备;
,,
*您想获取产品的资料:
个人信息: