全自动湿法去胶清洗机-CSE

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华林科纳半导体设备技术有限公司成立于2008年3月，投资4500万元。主要从事半导体设备、液晶湿制程设备、太阳能光伏设备、蓝宝石加工设备的研发、技术推广和生产销售。

公司一直秉承“以质量为生存，以创新求发展”的经营理念，不坚持比客户对自己的需求了解更多，以优质的产品和优良的服务赢得了各界用户的赞许和信赖。

华林科纳公司通过与上公司的广泛合作，目前已形成湿法清洗系统、刻蚀系统、CDS系统、尾气处理系统的四大系列数十种型号的产品，广泛应用与大规模集成电路、电力电子器件、分立器件、MEMS和太阳能电池等领域。

主要设备有：配液机 IPA干燥机化学品恒温机、化学试剂分装机、湿法清洗系统、刻蚀系统、CDS系统、尾气处理系统

配液机，IPA干燥机，化学品恒温机，化学试剂分装机，湿法清洗系统、刻蚀系统、CDS系统、尾气处理系统

全自动湿法去胶清洗机-南通华林科纳华林科纳湿法处理设备是国内致力于集成电路湿法设备的研制单位

全自动湿法去胶清洗机-CSE 产品信息

全自动湿法去胶清洗机-南通华林科纳

华林科纳湿法处理设备是国内致力于集成电路湿法设备的研制单位，多年来与众多的集成电路生产企业密切合作，研制开发出适合于4吋-8吋的全自动系列湿法处理设备

设备名称	南通华林科纳-全自动湿法去胶清洗机设备
设备概况	尺寸(参考)：约3500（L）1500(W)2000(H)（具体尺寸根据实际图纸确定）清洗件规格：一次性可装8寸晶片25pcs 典型生产节拍：5～10min/篮（清洗节拍连续可调）门：不锈钢合页门+PVC视窗
主题构造特点	设备由于是在一个腐蚀的环境，我们设备的排风方式，台面下抽风，每套工艺清洗槽都有自动开闭的槽盖，槽盖下有单独的抽风装置。设备结构外型，整机主要由机架、工艺槽体、机械手传输系统、排风系统、电控系统、水路系统及气路系统等组成。由于工艺槽内药液腐蚀性强，设备需要做防腐处理：（1）设备机架采用钢结构骨架包塑；（2）壳体采用镜面SUS316L不锈钢焊接，制程区由耐腐蚀的SUS316L板材组合焊接而成：（3）电气区设置在设备后上部，与湿区和管路区隔离；（4）槽体材料选用耐相应溶液腐蚀的材料；（5）机械手探人湿区部分的零部件表面喷氟或套PFA管处理。
应用领域	集成电路、声表面波（SAW）器件、微波毫米波器件、MEMS器件、封装等
设备制造商	南通华林科纳半导体设备有限公司；