详细摘要： 高压SF6开关设备铝铸造壳体，往往因为铸造缺陷，形成砂眼，且漏孔结构复杂，不易清洗，一旦泄露，采用常规方法很难查找漏点。本系统采用氦质谱检漏技术对铸造壳体进行整...

详细摘要： 适用于对12-40.5Kv气体绝缘开关设备（C-GIS）及7.2-12Kv环网柜产品的整机或气室进行检漏和 SF6气体的充注。系统检漏和气体充注时，始终使工件和...

详细摘要： 继电器

详细摘要： 自动挡汽车发动机和变速箱之间没有离合器，他们之间的连接是靠液力变矩器来实现的，液力变矩器内部含液压油，一旦泄漏，会严重影响传动效果，因此， 产品在出厂前都要进行...

详细摘要： 适用于汽车空调储液器进行氦检漏，可按照用户需求设置工位数，在共用抽空机组、氦质谱检漏仪以及充氦回收系统的情况下大大提高效率，相对于单工位系统来说在增加很少设备投...

详细摘要： 该设备可沉积金属、合金、及多种介质膜，可进行反应溅射；用于硬质膜，装饰膜及其它功能膜的研究开发。

详细摘要： 该设备在同一真空室内具有热蒸发和磁控溅射镀膜功能，用于各种单层膜、多层膜和掺杂膜系沉积；可镀各种硬质膜、金属膜、合金、化合物、半导体、陶瓷膜、介质复合膜，亦可镀...

详细摘要： 该设备为高真空多用途电阻蒸发镀膜机，四对电极可单独或同时蒸发不同的材料。设备为立式顶开盖结构，四对电极可单独或共蒸发，样品Φ300（max），样品台公自...

详细摘要： 该设备用于通过磁控溅射法沉积金属薄膜、陶瓷膜、介质膜等，用户可以根据工艺的需要选择单靶独立工作、四靶轮流工作或四靶任意组合共溅等工作模式。该设备由主腔室和预备室...

详细摘要： 该设备用于各种单层膜、多层膜和掺杂膜系沉积。可镀各种硬质膜、金属膜、合金、化合物、半导体、陶瓷膜、介质复合膜，亦可镀铁磁材料。图示镀膜机为双腔室，共用高真空系统...

详细摘要： 该设备可沉积单金属、合金、及多种介质膜，多层膜；主要用于Φ150-Φ500轮毂型金属、非金属零件表面沉积各类功能膜（耐磨、防腐、导电膜、绝缘膜等...

详细摘要： 磁控溅射镀膜机是应用泛的PVD沉积设备，可用于各种单层膜、多层膜和掺杂膜系。可镀各种硬质膜、金属膜、合金、化合物、半导体、陶瓷膜、介质复合膜和其他化学反应膜，亦...

详细摘要： 应用领域：透射电镜、离子探针、扫描电镜、能谱仪分析等样品制备，理化分析、科学研究等。主要功能：具备离子喷涂、离子溅射、离子清洗、蒸碳等功能

详细摘要： 本仪器主要用于扫描电子显微镜样品镀覆导电膜（金膜），仪器操作简单方便，是配合中小型扫描电子显微镜制样的仪器。

详细摘要： 直线式劳埃透镜镀制机，是为高能同步辐射光源（HEPS）研发的仪器装备，用于制备硬X射线纳米聚焦的劳埃透镜膜层。最主要的特点是膜层层数多（数千层甚至更多）且膜层位...

详细摘要： 倍增级磁控镀膜机主要应用于光电倍增管倍增级表面的锑膜镀制。在膜层制备过程中可实现对光电倍增管的倍增级基底进行烘烤除气、离子轰击清洁、膜层沉积和偏电压辅助、膜厚工...

详细摘要： 该设备为高真空ITO箱式镀膜设备，主要用于沉积AZO、GZO等系列透明导电膜，金属薄膜，半导体薄膜等，也可用于其他功能性薄膜的沉积。

详细摘要： Φ70x4060集热管镀膜生产线，产线主体Φ1500x6000水冷真空腔室4段，依次为预处理室、工艺1室、工艺2室和出样室；产线配移动式公自转工...

详细摘要： 该设备为Φ1200x6000水冷真空腔室，配移动式公自转工装架，工装架装载量10-20只，公自转工装架点对点自动运行；设备带偏压清洗及辅助沉积功能，工艺...

详细摘要： 中科科美提供中高温集热管镀膜整体解决方案。　　该设备为太阳能光热产业提供高温集热管真空涂层，可在不锈钢管上沉积选择性吸收膜，保证其有较高的吸收率和极低的发射率。