详细摘要： URE-2000S/A8 型紫外双面光刻机, 曝光面积：8 英寸, 曝光波长：365nm： 15mW/cm，405nm：15-30mW/cm2, 对准精度：2 ...

详细摘要： URE-2000S/A 型紫外双面光刻机,曝光面积：6 英寸，对准精度： 2m （双面,片厚 0.8mm）， 0.8m （单面）

详细摘要： URE-2000S/B 型紫外双面光刻机, 曝光面积：4 英寸, 对准精度：2m（双面,片厚 0.8mm）0.8m（单面）

详细摘要： URE-2000S/25A 型紫外双面光刻机，曝光面积：6 英寸，分辨力：1 m

详细摘要： URE-2000S/25 型紫外双面光刻机，曝光面积：4 英寸，正面对准采用双目双视场对准显微镜：既可通过目镜目视对准，也可通过 CCD+显示器对准，光学合像，...

详细摘要： URE-2000S/35L（A）型紫外双面光刻机，曝光面积：6 英寸，正面对准采用双目双视场对准显微镜：既可通过目镜目视对准，也可通过 CCD+显示器对准，光学...

详细摘要： URE-2000S/35L（B）型双面光刻机, 曝光面积：4 英寸, 正面对准采用双目双视场对准显微镜：既可通过目镜目视对准，也可通过 CCD+显示器对准，光学...

详细摘要： URE-2000S/25S 型双面光刻机，曝光面积：4 英寸（或 6 英寸），正面对准采用双目双视场对准显微镜：既可通过目镜目视对准，也可通过 CCD+显示器对...

详细摘要： 进口原厂正片1.掺杂类型：N，P2. 晶向：100，110，1113. 直径：2~12英寸4. 电阻率：常用各种范围均提供，0.001~10k欧姆.厘米5. T...

详细摘要： 国产正片，晶向：100，110，111 ，直径：2~8英寸

详细摘要： TOPS 激光开封系统 TL-1 EX,TL-1Plus（Laser D cap），脉冲式光纤激光，激光输出功率： 10w ，20w，30w，50w （可选），...

详细摘要： E-Beam 电子束光刻胶 ：HSQXR-1541-006, Z520, PMMA, EBL6000系列，Ma-N2400系列。纳米压印胶：mr-NIL 600...

详细摘要： 紫外光刻胶-薄胶，S 1800 系列，AZ5214, BCI-3511, SPR 955, AZ1500

详细摘要： Lifft off光刻胶 : RN-218系列， RN-246系列，ma-N 400 系列/1400 系列，AZ nLOF 2000系列， LOR/PGMI, ...

详细摘要： 宽带厚胶，SU-8 10系列：GM1010，GM1020，GM1030，GM1040，GM1050，GM1060，GM1070，GM1075导电 SU-8 (G...

详细摘要： 德国 ALLRESIST 紫外光刻胶，各种工艺：喷涂专用胶，化学放大胶，lift-off胶，图形反转胶，高分辨率胶，LIGA用胶等。各种波长: 深紫外(Deep...

详细摘要： 富士负性PI LTC9000系列：LTC 9305. LTC9310, LTC9320, LTC9505, LTC9510, LTC9520.正性PI：FB56...

详细摘要： 彩色光刻胶，EK580A，RGB彩色光刻胶，染色 SU-8。

详细摘要： 德国Allresist 电子束光刻胶（电子束抗蚀剂）（E-beam resist） 电子束正胶：PMMA 胶，PMMA/MA 聚合物， LIGA 用胶等。 电子...

详细摘要： 德国Allresist 特殊工艺用光刻胶，电子束曝光导电胶，耐酸碱保护胶，聚酰亚胺胶（耐高温保护胶），全息光刻用胶，长波曝光胶， 深紫外曝光胶等特殊工艺用胶