产品特征
● 灵活多样的对准方式和应用
● 高精度压力和优异温度控制
● 翘曲硅片和超高厚度硅片处理
● 客户低拥有成本
● 便捷的升级设计
- 晶圆对准设备
晶圆对准设备 | SWA200 | SWA300 |
基底尺寸 | 200mm | 300mm |
对准方式 | Face to face Alignment | Face to face Alignment |
对准精度 | <±2μm | <±2μm |
- 晶圆键合设备
晶圆键合设备 SWB200 SWB300 基底尺寸 200mm 300mm 接触压力 5KN(100KN可选配) 30KN(100KN可选配) 压力均匀性 <1% <1% 键合温度 250℃ (550℃ Optional) 250℃ (550℃ Optional) 真空度 <5×10-5 mbar <5×10-5 mbar 阳极键合 0-2000 V/50mA (Optional) 0-2000 V/50mA (Optional)
- 晶圆解键合设备
晶圆解键合设备 SWDB200/10 SWDB300/10 基底尺寸 200mm 200mm/300mm 解键合温度 300℃ 300℃