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双温区滑动旋转管式炉 详细摘要： 简单介绍：双温区滑动旋转管式炉通过机械传动控制工作管能360°不间断旋转，炉体在支架上能够前后滑动，可以实现快速升降温，双温区滑动旋转管式炉十分适合在气氛保护的...
产品型号： 所在地： 更新时间：2023-02-16 参考价： 面议 在线留言 -
真空立式淬火炉 详细摘要： 简单介绍：真空立式淬火炉主体为开启式立式管式炉，炉管上法兰装有吊钩及炉塞，可手动松开吊钩使悬挂的样品落下；下法兰与密封的液体容器通过φ100mm法兰连接，液体容...
产品型号：CY-1200X-4-VTQ 所在地： 更新时间：2023-02-16 参考价： 面议 在线留言 -
PE-HPCVD等离子增强物理... 详细摘要： 简单介绍：PE-HPCVD等离子增强物理化学气相沉积由一台双温区管式炉，一套钨丝蒸发源，一套等离子发生装置以及一套质量流量计组成。PE-HPCVD等离子增强物理...
产品型号：CY-PE-HPCVD 所在地： 更新时间：2023-02-16 参考价： 面议 在线留言 -
R-PECVD真空旋转等离子... 详细摘要： 简单介绍：R-PECVD真空旋转等离子增强CVD设备由旋转及倾斜机构、单温区管式炉、等离子发生机构、质量流量计供气系统、高真空分子泵组部分构成。R-PECVD真...
产品型号：TN-R-PECVD 所在地： 更新时间：2023-02-16 参考价： 面议 在线留言 -
晶圆级大尺寸二硫化钼制备CVD... 详细摘要： 简单介绍：晶圆级大尺寸二硫化钼制备CVD设备包括三温区管式炉，特殊设计的炉管及配套气路一组，晶圆级大尺寸二硫化钼制备CVD设备通过特殊设计的管路，能够将反应气体...
产品型号：CY-O1200-120III-IC-3Z-MoS2 所在地： 更新时间：2023-02-16 参考价： 面议 在线留言 -
1200℃高真空迷你CVD设备 详细摘要： 简单介绍：1200℃高真空迷你CVD设备核心是一款迷你管式炉，采用电阻丝加热。1200℃高真空迷你CVD设备包含一台三路浮子流量计，一台分子泵组，分别构成了CV...
产品型号： 所在地： 更新时间：2023-02-16 参考价： 面议 在线留言 -
迷你石墨烯CVD设备 详细摘要： 简单介绍：迷你石墨烯CVD设备专为石墨烯生产设计配有高精度质量流量计以及薄膜真空规。迷你石墨烯CVD设备同时设备配有可燃气体检测装置，联动出气口电磁阀，一旦出现...
产品型号： 所在地： 更新时间：2023-02-16 参考价： 面议 在线留言 -
PECVD-R旋转等离子加强... 详细摘要： 简单介绍：本产品为PECVD-R旋转等离子加强CVD设备。PECVD-R旋转等离子加强CVD设备十分适合在气氛保护的环境下连续对粉末材料用CVD方法进行包裹...
产品型号：CY-PECVD-R 所在地： 更新时间：2023-02-16 参考价： 面议 在线留言 -
5L等离子清洗机电容耦合 详细摘要： 简单介绍：等离子清洗机(plasma cleaner)，是一种全新的高科技技术，利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。等离子体是物质的一种状态，也叫做物...
产品型号： 所在地： 更新时间：2023-02-16 参考价： 面议 在线留言 -
离子源电子束蒸发镀膜仪 详细摘要： 简单介绍：该电子束蒸发方式镀膜仪，主要用于制备各种导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜，微纳器件微加工，电镜样品预处理等，尤其适用蒸镀各种难熔金属材料。不仅...
产品型号： 所在地： 更新时间：2023-02-16 参考价： 面议 在线留言 -
小型旋转涂覆仪 详细摘要： 简单介绍：本型号匀胶机经过小型化设计，整体采用铝合金结构，腔体上盖选用有机玻璃，外观美观坚固。仪器采用*的精密电机，*高转速能达到8000转/秒；控制依靠按键和...
产品型号：CY-SP4 所在地： 更新时间：2023-02-16 参考价： 面议 在线留言 -
紫外线光固化匀胶机 详细摘要： 简单介绍：紫外线光固化匀胶机配有紫外线光源，能够实现对特殊膜料的固化功能，紫外线光固化匀胶机真空吸附固定，操作简单，可自由取放。
产品型号：CY-SP8-UV 所在地： 更新时间：2023-02-16 参考价： 面议 在线留言 -
双靶磁控及蒸发复合镀膜仪 详细摘要： 简单介绍：双靶磁控及蒸发复合镀膜仪不锈钢真空腔体、磁控溅射靶，蒸发镀膜装置，放置样品的样品台，真空泵机组、真空测量规管，进气系统和控制系统组成。双靶磁控及蒸发复...
产品型号：CY-MS500S-2TA1S 所在地： 更新时间：2023-02-16 参考价： 面议 在线留言 -
碳钨蒸发等离子溅射复合镀膜仪 详细摘要： 简单介绍：碳钨蒸发等离子溅射复合镀膜仪可进行真空蒸碳、真空热蒸发和等离子溅射，它也可以在高纯氩气的保护之下进行多种离子处理，碳钨蒸发等离子溅射复合镀膜仪采用机械...
产品型号：TN-PEC250G-HV 所在地： 更新时间：2023-02-15 参考价： 面议 在线留言 -
换位自转等离子镀膜仪 详细摘要： 简单介绍：本型号等离子溅射仪，采用二级溅射方式，广泛用于SEM样品制备或金属镀膜试验，本设备配备换位自转式样品台，用户可以在触控屏上实现一键换位，样品台可在两个...
产品型号：CY-PSP180G-1TA-SWR 所在地： 更新时间：2023-02-15 参考价： 面议 在线留言 -
小型高真空热蒸发镀膜仪 详细摘要： 简单介绍：本仪器是一款高真空紧凑型热蒸发镀膜仪，蒸发温度从200℃到1700℃，采用钨丝篮作为蒸发源，蒸发源外套高纯氧化铝坩埚。
产品型号：CY-EVP170S-HV 所在地： 更新时间：2023-02-15 参考价： 面议 在线留言 -
桌面型双源蒸发镀膜仪 详细摘要： 简单介绍：桌面型双源蒸发镀膜仪配有两套蒸发源，可以通过挡板切换，实现对样品的多层镀膜，桌面型双源蒸发镀膜仪广泛用于电极的制备和有机物发光LED的制备
产品型号：CY-EVP180G-2S-LV 所在地： 更新时间：2023-02-15 参考价： 面议 在线留言 -
双靶DCRF磁控溅射镀膜仪（... 详细摘要： 简单介绍：双靶DCRF磁控溅射镀膜仪（往复样品台）配有一台直流电源，一台射频电源，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质...
产品型号：CY-MSP500S-DCRF-RE 所在地： 更新时间：2023-02-15 参考价： 面议 在线留言 -
双靶DCRF磁控溅射镀膜仪(靶... 详细摘要： 简单介绍：双靶DCRF磁控溅射镀膜仪(靶下置型)采用靶下置样品台在上方的布局。双靶DCRF磁控溅射镀膜仪(靶下置型)两个靶位，直流射频双电源，可用于制备单层或多...
产品型号：CY-MSP500S-DCRF-B 所在地： 更新时间：2023-02-15 参考价： 面议 在线留言 -
桌面型双靶直流磁控镀膜仪 详细摘要： 简单介绍：桌面型双靶直流磁控镀膜仪可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，尤其是实验室SEM样品制备，桌面型双靶直流磁控镀膜...
产品型号：CY-MSP210S-2DC 所在地： 更新时间：2023-02-15 参考价： 面议 在线留言