石墨烯、碳纳米管材料CVD设备
石墨烯、碳纳米管材料納米材料CVD设备 Graphene 、Nano-materials CVD

产品介绍
该设备主要用于石墨烯、納米材料工艺涂层、多晶硅、碳化硅、扩散、氧化、退火等工艺。

主要技术指标
石墨烯、碳纳米管材料納米材料CVD设备 Graphene 、Nano-materials CVD

产品介绍
该设备主要用于石墨烯、納米材料工艺涂层、多晶硅、碳化硅、扩散、氧化、退火等工艺。

主要技术指标
结构型式 | 卧式,单管或多管系统自动控制 |
适应晶片尺寸 | 2-8″ |
送取片方式 | 自动悬臂石英推拉舟,配合手动取、放片方式。 |
温度 | 1050℃ |
工作温度 | 400℃~850℃连续可调 |
单点温度稳定性 | 400℃~850℃≤±0.5℃/24h |
系统极限真空度 | 优于1Pa |
抽速 | 抽限真空时间<15Min |
工作压力范围 | 5Pa到1×105Pa连续可调 |
供电电源 | 三相五线380V±10%,50Hz |
冷却水 | 2~4Kgf/cm²,8L/min; |