低能离子注入机
一:概述
低能离子注入机可以通过离子源产生超低能量的离子束,在经过二极磁铁偏转之后,过滤掉不同荷质比的离子,只留下所需的离子
种类和能量的离子束可以穿过。束流在靶室位置的束流强度符合石墨烯等二维材料的注入特性。

二、设备主要技术参数
一:概述
低能离子注入机可以通过离子源产生超低能量的离子束,在经过二极磁铁偏转之后,过滤掉不同荷质比的离子,只留下所需的离子
种类和能量的离子束可以穿过。束流在靶室位置的束流强度符合石墨烯等二维材料的注入特性。

二、设备主要技术参数
辐照区域 | 5*5cm |
能量范围 | 100eV-2keV |
束流强度 | 均匀区域平均束流强度为几十nA |
离子能量选择 | 电磁铁控制偏转, |
离子种类 | Ar+,He+,N+,H+,O+ (P+可选) |
极限真空度 | <1E-4Pa |
工艺真空范围 | 5E-4Pa~5E-3Pa |
真空漏率 | ≤6.6×10-7 Pa.l/S |
工作电源 | 380v±5% 50HZ |
