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碳钨蒸发等离子溅射复合镀膜仪 详细摘要: 简单介绍:碳钨蒸发等离子溅射复合镀膜仪可进行真空蒸碳、真空热蒸发和等离子溅射,它也可以在高纯氩气的保护之下进行多种离子处理,碳钨蒸发等离子溅射复合镀膜仪采用机械...
产品型号:TN-PEC250G-HV 所在地: 更新时间:2023-02-15 参考价: 面议 在线留言 -
换位自转等离子镀膜仪 详细摘要: 简单介绍:本型号等离子溅射仪,采用二级溅射方式,广泛用于SEM样品制备或金属镀膜试验,本设备配备换位自转式样品台,用户可以在触控屏上实现一键换位,样品台可在两个...
产品型号:CY-PSP180G-1TA-SWR 所在地: 更新时间:2023-02-15 参考价: 面议 在线留言 -
小型高真空热蒸发镀膜仪 详细摘要: 简单介绍:本仪器是一款高真空紧凑型热蒸发镀膜仪,蒸发温度从200℃到1700℃,采用钨丝篮作为蒸发源,蒸发源外套高纯氧化铝坩埚。
产品型号:CY-EVP170S-HV 所在地: 更新时间:2023-02-15 参考价: 面议 在线留言 -
桌面型双源蒸发镀膜仪 详细摘要: 简单介绍:桌面型双源蒸发镀膜仪配有两套蒸发源,可以通过挡板切换,实现对样品的多层镀膜,桌面型双源蒸发镀膜仪广泛用于电极的制备和有机物发光LED的制备
产品型号:CY-EVP180G-2S-LV 所在地: 更新时间:2023-02-15 参考价: 面议 在线留言 -
双靶DCRF磁控溅射镀膜仪(... 详细摘要: 简单介绍:双靶DCRF磁控溅射镀膜仪(往复样品台)配有一台直流电源,一台射频电源,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质...
产品型号:CY-MSP500S-DCRF-RE 所在地: 更新时间:2023-02-15 参考价: 面议 在线留言 -
双靶DCRF磁控溅射镀膜仪(靶... 详细摘要: 简单介绍:双靶DCRF磁控溅射镀膜仪(靶下置型)采用靶下置样品台在上方的布局。双靶DCRF磁控溅射镀膜仪(靶下置型)两个靶位,直流射频双电源,可用于制备单层或多...
产品型号:CY-MSP500S-DCRF-B 所在地: 更新时间:2023-02-15 参考价: 面议 在线留言 -
桌面型双靶直流磁控镀膜仪 详细摘要: 简单介绍:桌面型双靶直流磁控镀膜仪可用于金属薄膜的制备,在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用,尤其是实验室SEM样品制备,桌面型双靶直流磁控镀膜...
产品型号:CY-MSP210S-2DC 所在地: 更新时间:2023-02-15 参考价: 面议 在线留言 -
桌面型不锈钢腔体双靶磁控镀膜仪 详细摘要: 简单介绍:双靶磁控镀膜仪,可用于金属薄膜的制备,在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用,也可实验室SEM样品制备
产品型号:CY-MSP210S-DC-D 所在地: 更新时间:2023-02-15 参考价: 面议 在线留言 -
倾斜样品台式单靶磁控镀膜仪 详细摘要: 简单介绍:本设备为倾斜样品台式单靶磁控镀膜仪,样品台与靶面的角度可调,可用于制作特定生长角度的薄膜。设备外形为桌面级别,大大减少了安装场地需求。设备配有一个直流...
产品型号:CY-MSP180G-AR 所在地: 更新时间:2023-02-15 参考价: 面议 在线留言 -
桌面型靶下置型磁控镀膜仪 详细摘要: 简单介绍:本设备为桌面型单靶磁控镀膜仪。设备经过小型化设计,将设备外形限制在了桌面级别,大大减少了安装场地需求。设备配有一个直流电源,能够用于溅射金属材料,具有...
产品型号:CY-MSP180S-DC-GU 所在地: 更新时间:2023-02-15 参考价: 面议 在线留言 -
行星式单靶磁控镀膜仪 详细摘要: 简单介绍:本设备为桌面型行星式单靶磁控镀膜仪,腔体下半部为不锈钢机构,上部为高纯石英,兼顾了真空性能和容纳复杂样品台的功能型。设备外形为桌面级别,大大减少了安装...
产品型号:CY-MSP180G-PST 所在地: 更新时间:2023-02-15 参考价: 面议 在线留言 -
桌面型偏置靶单靶磁控镀膜仪 详细摘要: 简单介绍:单靶磁控镀膜仪配有一个直流电源,可用于金属及其他导电材料的溅射。单靶磁控镀膜仪真空系统采用涡轮分子泵组,抽气速度快,极限真空度高,真空性能优异。本设备...
产品型号:CY-MSP300G-RB 所在地: 更新时间:2023-02-15 参考价: 面议 在线留言